[发明专利]一种负离子光学幕布及其制备工艺在审
| 申请号： | 202011480611.2 | 申请日： | 2020-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN112596333A | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 肖晓宇;黄奇 | 申请（专利权）人： | 深圳市光科数字科技有限公司 |
| 主分类号： | G03B21/60 | 分类号： | G03B21/60;G03B21/56;C09D167/00;C09D7/40 |
| 代理公司： | 无锡风创知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32461 | 代理人： | 单虎 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市福田区福保街道*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 负离子 光学 幕布 及其 制备 工艺 | ||
1.一种负离子光学幕布，其特征在于：包括PVC基底层和位于PVC基底层上方的微棱镜层、反射层、保护层和功能涂层，所述功能涂层包括以下原料组成：聚酯树脂70-100份、功能剂20-40份、流平剂5-10份、消泡剂2-10份。
2.根据权利要求1所述的负离子光学幕布，其特征在于：所述聚酯树脂选自环氧树脂、丙烯酸聚氨酯和有机硅改性聚酯树脂中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的负离子光学幕布，其特征在于：所述功能剂选自负离子液。
4.根据权利要求1所述的负离子光学幕布，其特征在于：所述流平剂为有机硅流平剂，所述有机硅流平剂选自聚二甲基硅氧烷、聚醚聚酯改性有机硅氧烷和烷基改性有机硅氧烷中的至少一种。
5.根据权利要求1所述的负离子光学幕布，其特征在于：所述消泡剂选自聚醚改性有机硅消泡剂。
6.根据权利要求1所述的负离子光学幕布，其特征在于：所述保护层为玻璃纤维布，所述玻璃纤维布的厚度为1-3mm。
7.根据权利要求1所述的负离子光学幕布，其特征在于：所述反射层为金属反射层。
8.一种负离子光学幕布的制备工艺，包括权利要求1-7中任意一项所述的负离子光学幕布，其特征在于：包括如下操作步骤：
S1、将微棱镜层放置于PVC基底层上，升温压合；
S2、将保护层和反射层，放置于微棱镜层上，升温压合；
S3、将聚酯树脂熔融，加入功能剂，超声分散，使溶液混合；
S4、加入流平剂和消泡剂，超声分散，使溶液混合，静置后制得功能涂料；
S5、将涂料均匀涂抹在反射层表面，干燥冷却后，制得光学幕布。
9.根据权利要求8所述的负离子光学幕布的制备工艺，其特征在于：所述S1-S2中，压合温度为110-130℃，所述S2中，压合温度为90-110℃。
10.根据权利要求8所述的负离子光学幕布的制备工艺，其特征在于：所述S3-S4中，超声分散时间为15-30min。
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