[发明专利]一种光学显像膜及其制备工艺

权利要求书

1.一种光学显像膜，其特征在于：所述光学显像膜包括基膜和位于基膜上的凸起部，所述凸起部大体上呈现直角梯形结构，所述直角梯形结构的倾斜面上设置有台阶结构，所述台阶结构包括平行于基膜的第一面以及与基膜呈现一定角度的第二面，在所述台阶结构上还设置有显像膜层，所述显像膜层包括漫反射层和位于所述漫反射层上的环境光吸收层。

2.根据权利要求1所述的光学显像膜，所述基膜和位于基膜上的凸起部采用PC树脂、PMMA树脂或ABS树脂中的任一透明树脂制备而成。

3.根据权利要求1所述的光学显像膜，所述台阶结构的第一面和第二面的数量可以为多个并且多个第二面之间彼此互相平行。

4.根据权利要求1所述的光学显像膜，所述漫反射层采用Ag、Al、Cr中任一种高反射率的材料沉积得到，所述环境光吸收层为树脂与黑色添加物混合物涂覆得到。

5.根据权利要求1所述的光学显像膜，所述漫反射层通过调控沉积涂层的参数、沉积前处理或者沉积后处理等方式来获得特定的漫反射率。

6.根据权利要求1所述的光学显像膜，所述台阶结构的多个第二面与基膜的角度呈现变化的趋势。

7.根据权利要求1所述的光学显像膜，所述台阶结构的多个第二面与基膜的角度从上到下表现为依次递减或者递增的趋势。

8.根据权利要求1所述的光学显像膜，所述台阶部和显像膜层之间还包括漫反射结构层，所述漫反射结构层构造为通过在凸起部上加工出的微细粗糙结构层。

9.一种如权利要求1-8任一所述的光学显像膜的制备方法，所述工艺包括：制备基膜以及位于基膜上的凸起部，接着在基膜的凸起部上沉积漫反射层和环境光吸收层从而获得所述的光学显像膜。

10.根据权利要求8所述的制备方法，所述台阶部和显像膜层之间还包括漫反射结构层，所述漫反射结构层构造为通过在凸起部上加工出的微细粗糙结构层。