[发明专利]一种化妆品研磨设备

说明书

本发明公开了一种化妆品研磨设备，涉及化妆品研磨加工技术领域，该化妆品研磨设备，包括研磨机箱，所述研磨机箱的顶部设置进料口，所述研磨机箱的底部设置有出料口，所述研磨机箱的上部通过漏斗式型腔围成搅拌室，所述搅拌室底部为下料口，所述搅拌室内沿轴向设置有搅拌叶，所述搅拌叶由电机一驱动，电机一设置在研磨机箱的顶部中心位置，研磨机箱的下部为研磨室。本发明通过设置研磨机箱、进料口、搅拌室、搅拌叶、电机一、研磨室、研磨机构、电机二、传动系统、盖板和隔音板，解决了现有的研磨设备的研磨机构处于敞开的状态，研磨时需要人工控制加料，人工依赖程度大，存在操作不便，浪费劳动力，研磨机构容易附着灰尘影响研磨品质的问题。

技术领域

本发明涉及化妆品研磨加工技术领域，具体为一种化妆品研磨设备。

背景技术

化妆品的种类多种多样，根据质地可分为液体：洗面乳、浴液、洗发液、化妆水、香水等；乳液：蜜类、奶类；膏霜类：润面霜、粉底霜、洗发膏等；粉类：香粉、爽身粉、散粉；块状：粉饼、化妆盒、口红、发蜡等；大部分化妆瓶在生产加工过程中均需要进行研磨工序，例如对口红原材料的研磨。

现有的研磨设备的研磨机构处于敞开的状态，研磨时料液加在两个切向接触的研磨辊之间，一次性加料过多，料液的存放空间有限易在研磨辊的惯性作用力下漫出研磨机构，因此在研磨时需要人工控制缓慢加料，整个加料过程需要人工参与，人工依赖程度大，存在操作不便，浪费劳动力，研磨机构容易附着灰尘影响研磨品质的问题。

针对上述问题，为此我们提供了一种具有足够的料液存放空间，可自动控制进料量，缓慢进料，保证研磨机构处于设备内部的一种化妆品研磨设备。

发明内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本发明提供了一种化妆品研磨设备，解决了现有的研磨设备的研磨机构处于敞开的状态，研磨时需要人工控制加料，人工依赖程度大，存在操作不便，浪费劳动力，研磨机构容易附着灰尘影响研磨品质的问题。

(二)技术方案

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：一种化妆品研磨设备，包括研磨机箱，所述研磨机箱的顶部设置进料口，所述研磨机箱的底部设置有出料口，所述研磨机箱的上部通过漏斗式型腔围成搅拌室，所述搅拌室底部为下料口，所述搅拌室内沿轴向设置有搅拌叶，所述搅拌叶由电机一驱动，所述电机一设置在研磨机箱的顶部中心位置，所述研磨机箱的下部为研磨室，所述搅拌室通过下料口与研磨室相连通，所述研磨室内设置研磨机构，所述研磨机构包括两组水平设置的粗磨滚轴和两组水平设置的细磨滚轴，所述粗磨滚轴分布在细磨滚轴上方并相互平行设置，所述电机二通过传动系统驱动粗磨滚轴和细磨滚轴同步运转，所述出料口的下方设置有出料台，所述出料口侧壁斜向上设置有刮板，且刮板下边缘沿出料口底部向上延伸至上边缘靠近细磨滚轴周面的位置。

优选的，所述进料口位置通过合页连接盖合在进料口上的盖板。

优选的，所述搅拌叶为螺旋叶，所述搅拌叶延伸至下料口下方，所述搅拌叶的叶宽与下料口的口径大小相适配。

优选的，所述研磨室与研磨机构平行一侧的壁面沿粗磨滚轴和细磨滚轴的周面弯曲成“3”字形。

优选的，所述粗磨滚轴沿竖直向对称分布，且之间形成的“X”形凹陷，所述下料口位于粗磨滚轴“X”形凹陷的正上方，所述细磨滚轴沿竖直向对称分布，且之间形成的“X”形凹陷与粗磨滚轴的“X”形凹陷正对应。

优选的，所述左侧的粗磨滚轴和细磨滚轴均顺时针方向运转，所述右侧的粗磨滚轴和细磨滚轴均逆时针方向运转。

优选的，所述传动系统为同步带传动机构，一组所述电机二通过传动系统驱动左侧的粗磨滚轴和细磨滚轴同步运转，另一组所述电机二通过传动系统驱动右侧的粗磨滚轴和细磨滚轴同步运转，两组所述电机二的运转速度相同。

优选的，所述研磨机箱的机壳为中空的双层，且研磨机箱的中空层填充隔音板。