[发明专利]一种TFT-LCD液晶玻璃窑炉氮氧化物的控制方法在审
申请号: | 202011487070.6 | 申请日: | 2020-12-16 |
公开(公告)号: | CN112608009A | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
发明(设计)人: | 彭寿;张冲;李兆廷;任红灿;陈英;王国全;邵廷荣;黄德伟;段美胜 | 申请(专利权)人: | 成都中光电科技有限公司;东旭集团有限公司 |
主分类号: | C03B5/235 | 分类号: | C03B5/235;C03B5/16 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 吕玲 |
地址: | 611731 四川省成都*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 tft lcd 液晶 玻璃 窑炉氮 氧化物 控制 方法 | ||
本发明公开一种TFT‑LCD液晶玻璃窑炉氮氧化物的控制方法,具体包括减少窑炉中氮气的引入,具体过程:控制置于液晶玻璃窑炉两侧上的第四对烧枪在正常生产时通入氧气对第四对烧枪进行冷却或者在窑炉过完大火后正常生产前,拆除第四对烧枪,然后用耐火材料将第四对烧枪口封住,以及选用热值高的工业用天然气作为燃料,改变置于液晶玻璃窑炉端部烟道上的烟气冷却方法,以及控制液晶玻璃窑炉中氧气和天然气比例为2.1‑2.4:1等手段大幅度的降低窑炉氮氧化物的排放;不仅满足待实施的国家新的环保排放标准,且不需要对硬件设备进行大的改造,就能达到环保排放要求,具有较好的经济和社会价值。
技术领域
本发明属于玻璃生产窑炉设备技术领域,特别涉及一种TFT-LCD液晶玻璃窑炉氮氧化物的控制方法。
背景技术
随着空气污染日趋严重,氮氧化物的减排已越发受到关注与重视,在玻璃生产过程中,氮氧化物是TFT-LCD液晶玻璃基板生产窑炉的烟气排放物,环保部门对其排放值有要求,TFT-LCD液晶玻璃基板原料中硝酸盐比例较少,窑炉产生的绝大部分氮氧化物为保护窑炉烧枪和窑炉烟气降温时引入的空气,也有部分是天然气(民用天然气)中调整热值时引入的空气或氮气,在高温环境产生的氮氧化物。虽然现有技术的窑炉排放的氮氧化物满足现有国家环保排放标准,但不满足即将实施的新的国家环保排放的技术要求,即现有的窑炉烟气中氮氧化物的排放量为新的国家环保排放标准的两倍左右;对于已经点火持续生产的窑炉进行大的技术改造成本高、难度大,但又必须达到即将实施的新的国家环保排放标准,必须找到一种经济可行的技术方案解决现有环保问题。
发明内容
本发明解决的技术问题是:提供一种TFT-LCD液晶玻璃窑炉氮氧化物的控制方法,本发明主要通过控制产生氮氧化物的基本物质,控制氮氧化物的生成环境条件,调试设备的工作技术状态。
本发明采用的技术方案如下:
一种TFT-LCD液晶玻璃窑炉氮氧化物的控制方法,包括减少窑炉中氮气的引入,具体包括减少冷却净化压缩空气的引入,减少冷却净化压缩空气的引入的具体过程:控制置于液晶玻璃窑炉两侧上的第四对烧枪在正常生产时通入氧气对第四对烧枪进行冷却。
优选的,所述减少窑炉中氮气的引入,还包括控制燃料中氮的引入量,具体过程:选用热值高的工业用天然气作为燃料。
优选的,所述液晶玻璃窑炉氮氧化物的控制方法还包括,改变置于液晶玻璃窑炉端部烟道上的烟气冷却方法,将烟道中汇入空气降温,变为由冷却水盘管降低烟气温度。
优选的,所述液晶玻璃窑炉氮氧化物的控制方法还包括,控制通入液晶玻璃窑炉中氧气和天然气比例,氧气:天然气为2.1-2.4:1。
优选的,所述减少冷却净化压缩空气的引入的具体过程还包括:在窑炉过完大火正常生产时,拆除第四对烧枪,然后用耐火材料将第四对烧枪口封住。
烧枪控制系统,包括置于液晶玻璃窑炉两侧结构一致的若干对烧枪,沿远离烟道方向上分别为第一对烧枪、第二对烧枪、第三对烧枪、第四对烧枪;每对烧枪中的每只烧枪均连通有天然气管道、氧气管道、净化压缩空气管道,所述天然气管道上设置有天然气控制阀,所述氧气管道上设置有氧气控制阀,所述净化压缩空气管道上设置有净化压缩空气阀;每对烧枪所述每只烧枪上的天然气控制阀、氧气控制阀、净化压缩空气阀均与窑炉燃烧控制系统连接组成控制回路,窑炉燃烧控制系统单独控制该对烧枪中的每只烧枪的天然气控制阀、氧气控制阀、净化压缩空气阀的调节;若干烧枪对应若干窑炉燃烧控制系统的控制回路。
优选的,在正常生产时,与第四对烧枪对应的窑炉燃烧控制系统发出指令,所述液晶玻璃窑炉第四对烧枪通入氧气,对第四对烧枪中的天然气控制阀关闭,净化压缩空气阀关闭,氧气控制阀打开。
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