[发明专利]磁化电子串联共振方法及其装置

权利要求书

1.磁化电子串联共振方法，其特征在于，包括步骤：

在一反应腔内提供射频电压，以使所述反应腔内的气体放电产生等离子体，其中所述等离子体中的离子在电场的作用下加速轰击在所述反应腔内的靶材，使得所述靶材表面的离子溅射出来；和

调整在所述反应腔内形成的磁场的磁感应强度大小，以使所述等离子体发生磁化电子串联共振，从而在保持放电功率不变的条件下，使得射频电流最大。

2.如权利要求1所述的磁化电子串联共振方法，其中，通过一电极装置的一射频电源在所述反应腔内为所述电极装置的一射频驱动电极提供所述射频电压，并通过所述电极装置的供磁元件在所述反应腔内形成所述磁场。

3.如权利要求2所述的磁化电子串联共振方法，其中，通过调节电磁线圈内的电流大小来调整所述磁场的磁感应强度的大小，其中所述供磁元件为所述电磁线圈。

4.如权利要求2所述的磁化电子串联共振方法，其中，通过更换具有不同磁感应强度的所述永磁体来调整所述磁场的磁感应强度的大小，其中所述供磁元件为所述永磁体。

5.如权利要求1至4中任一所述的磁化电子串联共振方法，进一步包括步骤，调整在所述反应腔内提供的所述射频电压的频率大小，以使所述磁场的磁感应强度与所述射频电压的频率满足磁化电子串联共振关系。

6.磁化电子串联共振装置，适于被设置于一反应腔体，其中所述反应腔体具有适于容置靶材和气体的反应腔，用于进行镀膜或刻蚀，其特征在于，其中所述磁化电子串联共振装置包括：

一电极装置，其中所述电极装置适于被安装于该反应腔体，用于在该反应腔内提供射频电压，以使该反应腔内的该气体放电产生等离子体，其中该等离子体中的离子在电场的作用下加速轰击在该反应腔内的该靶材，使得该靶材表面的离子溅射出来；和

一调整系统，其中所述调整系统用于调整在该反应腔内形成的磁场的磁感应强度大小，以使该等离子体发生磁化电子串联共振，从而在保持放电功率不变的条件下，使得射频电流最大。

7.如权利要求6所述的磁化电子串联共振装置，其中，所述电极装置包括至少一射频电源、至少一射频驱动电极以及至少一供磁元件，其中所述射频电源具有预设的频率；其中所述射频驱动电极连接于所述射频电源的输出端，其中所述射频驱动电极上适于安装该靶材，并使面向该靶材的基材与该靶材相距一定的距离，以形成一溅射空间；其中所述供磁元件被设置于在临近该靶材的区域提供至少部分平行于该靶材表面的磁场的位置。

8.如权利要求7所述的磁化电子串联共振装置，其中，所述供磁元件为电磁线圈，并且所述调整系统用于调节所述电磁线圈内的电流大小来调整该磁场的磁感应强度的大小。

9.如权利要求7所述的磁化电子串联共振装置，其中，所述供磁元件为永磁体，其中所述调整系统用于更换具有不同磁感应强度的所述永磁体来调整该磁场的磁感应强度的大小。

10.如权利要求6至9中任一所述的磁化电子串联共振装置，其中，被调整后的该磁场的磁感应强度与该射频电源的频率之间满足磁化电子串联共振关系。