[发明专利]一种超导纳米线单光子探测器电热过程仿真方法有效

专利信息
申请号: 202011495112.0 申请日: 2020-12-17
公开(公告)号: CN112651111B 公开(公告)日: 2022-09-09
发明(设计)人: 郭江华;聂矗;张恒彬;田侑成;龙林鑫 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: G06F30/20 分类号: G06F30/20;G01J11/00
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 刘琰
地址: 430072 湖*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 导纳 米线 光子 探测器 电热 过程 仿真 方法
【权利要求书】:

1.一种超导纳米线单光子探测器电热过程仿真方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

步骤1:构建超导纳米单光子热模型方程:超导纳米线单光子探测器工作时被偏置在低于其超导临界电流的位置,吸收层采用超导薄膜材料制备成的纳米线蜿蜒型的曲折结构,当吸收光子后,纳米线吸收区域的超导状态被破坏,形成电阻态热点,热点区域在流经的电流焦耳热的协同作用下扩大到一定范围,然后由于纳米线自身的热传导以及向基底的散热,热点区域逐渐减小直至消失,纳米线恢复到初始超导状态,由此构建热模型方程;

步骤2:构建超导纳米单光子电模型方程:超导纳米线看作一个电感与时变电阻串联接入读出电路中,由此构建等效电路微分方程;

步骤3:超导纳米单光子的电热仿真:超导纳米线吸收入射光子后,形成阻区,以此为初始状态,求出下一时间步长的温度分布,进而算出纳米线上的临界电流密度分布,比较温度与临界温度,以及电流密度与临界电流密度,确定纳米线的状态,更新电阻率分布求出电阻值,再将电阻带入电路微分方程中,求出下一时刻的电流;

步骤4:根据下一时间步长的温度与当前温度的关系对超导纳米单光子的热模型方程进行求解;

步骤5:超导纳米单光子的电模型方程求解:电路微分方程基于龙格-库塔法求解,得到求解的初值;

步骤6:基本条件的确定:根据求解的初值,确定初始条件和边界条件,包括:临界电流、电阻率、比热容、热导率和热交换系数;

步骤7:根据得到的基本条件,分析电路元件参数对响应时间的影响;

所述步骤1中,热模型方程为:

其中,为单位时间、单位体积内流出的热量,为单位时间、单位体积内产生的热量,ρ为纳米线上微元的密度,cp为纳米线上微元的定压比热容,为单位体积、单位时间内的温升;

所述步骤2中,等效电路微分方程为:

其中,Ibias表示偏置电流;I是超导纳米线上的电流,Lk为纳米线的动态电感,计算中取为定值,Rn为纳米线随时间变化的电阻值,Cbt为读出电路的耦合电容,Z0为读出电路的负载;

所述步骤4中,求解方程的方法为:

下一时间步长的温度与当前温度的关系如下:

其中,τ、h分别为时间步长和空间步长,κ表示纳米线热导率、表示n+1时刻i+1位置纳米线的温度、c表示纳米线电容、J2ρ表示电流在阻态区域形成的热量,时间步长τ=1ps,空间步长h=1nm,利用n时刻的温度分布来求解n+1时刻的温度分布;

所述步骤5中,对电模型方程求解的方法为:

电路微分方程基于龙格-库塔法求解,即当解的变化小于一定阈值时采用较大的步长;当解的变化大于一定阈值时步长会自动地变小,将电路方程改写为:

其中,Uc表示纳米线电容两端的电压。

2.根据权利要求1所述的超导纳米线单光子探测器电热过程仿真方法,其特征在于,所述步骤1中,超导光导电子探测器包括超导边缘转变探测器、超导隧道结、超导动态电感探测器和超导热电子辐射热计。

3.根据权利要求1所述的超导纳米线单光子探测器电热过程仿真方法,其特征在于,所述步骤6中,确定的初始条件和边界条件为:

初始值为偏置电流,为16.7μA,然后由于电阻值快速增大,纳米线中的电流开始快速下降,在307ps时达到最小值3.487μA,之后缓慢上升;纳米线两端电压随时间的变化情况为,电压则先快速上升,同样在307ps时达到最大值0.66mV,然后缓慢下降;纳米线中阻态区域先不断增大,188ps时电阻达到最大值,为5.2kΩ,307ps时阻值变为0。

4.根据权利要求1所述的超导纳米线单光子探测器电热过程仿真方法,其特征在于,所述步骤7中,分析电路元件参数对响应时间的影响的方法为:

光子入射后,由于Sidewalk效应的存在,宽度方向被阻态贯通需要一定的时间,时间大小会受到入射光子的能量、入射位置的因素影响,在阻态能够贯通宽度方向的情况下,能量越大、入射位置越靠近纳米线中心点,所需要的贯通时间越小,对于波长较长的光子,其不对称性和偏离高斯形状的程度越大。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉大学,未经武汉大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011495112.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top