[发明专利]前驱体制备系统以及制备方法

权利要求书

1.一种前驱体制备系统，其特征在于，所述前驱体制备系统包括第一反应釜、第二反应釜、输送机构(300)以及控制机构；

所述第一反应釜包括第一釜体(110)、第一进料组件(120)和第一搅拌组件(130)；所述第一釜体(110)具有第一反应腔室(111)，所述第一进料组件(120)配置为能够向所述第一反应腔室(111)中提供浆料，所述第一搅拌组件(130)配置为能够对所述第一反应腔室(111)中的浆料进行搅拌；

所述第二反应釜包括第二釜体(210)、第二进料组件(220)和第二搅拌组件(230)；所述第二釜体(210)具有第二反应腔室(211)以及与所述第二反应腔室(211)连通的溢流口(213)，所述溢流口(213)用于排出前驱体，所述第二进料组件(220)配置为能够向所述第二反应腔室(211)中提供浆料，所述第二搅拌组件(230)配置为能够对所述第二反应腔室(211)中的浆料进行搅拌；

所述输送机构(300)配置为能够在制备前驱体的整个过程中持续地将所述第一釜体(110)中的小颗粒晶核输送至所述第二釜体(210)中；

其中，所述第一反应腔室(111)中的pH值大于所述第二反应腔室(211)中的pH值；所述第一进料组件(120)向所述第一反应腔室(111)提供浆料的流量为a，所述第二进料组件(220)向所述第二反应腔室(211)提供浆料的流量为b，所述输送机构(300)输送小颗粒晶核的流量为c，所述控制机构配置为能够控制所述第一进料组件(120)和所述第二进料组件(220)以使：流量a为流量b的0.01～0.3倍，流量c等于流量a。

2.根据权利要求1所述的前驱体制备系统，其特征在于，所述第一反应釜包括-第一挡板(140)，所述第一挡板(140)设置在所述第一釜体(110)的内壁上；和/或，所述第二反应釜包括第二挡板(240)，所述第二挡板(240)设置在所述第二釜体(210)的内壁上。

3.根据权利要求1所述的前驱体制备系统，其特征在于，所述第一釜体(110)的底部设有与所述第一反应腔室(111)连通的第一排液口(112)，和/或，所述第二釜体(210)的底部设有与所述第二反应腔室(211)连通的第二排液口(212)。

4.根据权利要求1所述的前驱体制备系统，其特征在于，第一进料组件(120)包括与所述第一反应腔室(111)连通以用于向所述第一反应腔室(111)提供氮气的第一进气口，和/或，第二进料组件(220)包括与所述第二反应腔室(211)连通以用于向所述第二反应腔室(211)提供氮气的第二进气口。

5.根据权利要求1-4中任意一项所述的前驱体制备系统，其特征在于，所述第一反应釜包括包覆于所述第一釜体(110)的外壁的第一夹套(150)，和/或，所述第二反应釜包括包覆于所述第二釜体(210)的外壁的第二夹套(250)。

6.一种前驱体制备方法，其特征在于，所述前驱体制备方法包括以下步骤：

S1、持续地以流量a向第一反应腔室(111)中加入浆料并搅拌；

S2、持续地以流量b向所述第二反应腔室(211)中加入浆料并搅拌，同时，将所述第一反应腔室(111)中形成的小颗粒晶核持续地以流量c输送至第二反应腔室(211)中；

S3、将所述第二反应腔室(211)中的浆料经压滤、洗涤、烘干后，得到前驱体；

其中，步骤S1与步骤S2同时进行，所述第一反应腔室(111)中的pH值大于所述第二反应腔室(211)中的pH值，并且流量a为流量b的0.01～0.3倍，流量c等于流量a。

7.根据权利要求6所述的前驱体制备方法，其特征在于，在步骤S1和步骤S2中，分别持续地向所述第一反应腔室(111)和所述第二反应腔室(211)中通入氮气，氮气流速为20～200L/h。

8.根据权利要求6所述的前驱体制备方法，其特征在于，在步骤S1中，搅拌转速为120～250rpm；在步骤S2中，搅拌转速为50～250rpm。