[发明专利]工业X射线系统成像方法和装置在审

专利信息
申请号: 202011495873.6 申请日: 2020-12-17
公开(公告)号: CN112649452A 公开(公告)日: 2021-04-13
发明(设计)人: 丁赛赛;王康;左文琪 申请(专利权)人: 苏州斯玛维科技有限公司
主分类号: G01N23/046 分类号: G01N23/046
代理公司: 苏州隆恒知识产权代理事务所(普通合伙) 32366 代理人: 金京
地址: 215000 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 工业 射线 系统 成像 方法 装置
【说明书】:

本申请公开了一种工业X射线系统成像方法和装置,涉及X射线系统成像技术领域,所述方法包括:加载工业X射线成像系统的物理参数和扫描参数;形成的精确光学路径,并计算给定角度下,射线源的边界与所有探测器单元边界的所处的射线方程;计算X射线光源与所有探测器单元在精确光学路径下与所有像素的相交体积权重,并用单位像素体积对相交权重做归一化处理,得到给定扫描位置所有像素的归一化权重函数;对原始扫描数据进行预校正处理;对预校正后的投影数据按水平通道方向进行卷积滤波处理,得到滤波后的投影数据;对滤波后的投影数据进行逐视角加权反投影操作,实现对被扫描物体的精确重建。解决了现有技术中重建图像的空间分辨率较差的问题。

技术领域

发明涉及一种工业X射线系统成像方法和装置,属于X射线系统成像技术领域。

背景技术

工业的X射线计算机断层成像技术(Computed Tomography,CT)具有穿透力强、无损等优点,被广泛的应用工业无损检测领域。其中,锥束滤波反投影算法,由于其计算量小,重建图像质量较好,算法效率高,是目前商用的X光机的主流重建算法。

然而,现有的锥束滤波反投影算法,在推导反投影重建过程中,将X射线成像系统做理想化处理,即忽略X射线光源焦点、探测器的物理尺寸,将X射线光源、探测器单元以及像素抽象为理想的点。其优势在于,通过X射线光源的点坐标、像素的点坐标能快速计算反投影步骤中探测器单元的像素索引,从而快速实现反投影运算。然而,真实的X射线系统,X射线光源焦点、探测器单元均有固定的物理尺寸,理想化假设会导致反投影重建模型与真实的数据采集模型显著不匹配,从而使探测器单元不能真实的反应对空间像素的反投影贡献,会退化重建图像的空间分辨率。

发明内容

本发明的目的在于提供一种工业X射线系统成像方法和装置,用于解决现有技术中存在的问题。

为达到上述目的,本发明提供如下技术方案:

根据第一方面,本发明实施例提供了一种工业X射线系统成像方法,所述方法包括:

加载工业X射线成像系统的物理参数和扫描参数;

根据X射线光源的物理参数和位置参数以及探测器的物理参数和位置参数,定位X射线光源与所有探测器单元形成的精确光学路径,并计算给定角度下,射线源的边界与所有探测器单元边界的所处的射线方程;

根据定义的扫描物体空间的物理坐标和网格尺寸,计算X射线光源与所有探测器单元在精确光学路径下与所有像素的相交体积权重,并用单位像素体积对相交权重做归一化处理,得到给定扫描位置所有像素的归一化权重函数;

读入工业X射线系统对被扫描物体的原始扫描数据,并对所述原始扫描数据进行预校正处理;

通过卷积滤波函数对预校正后的投影数据按水平通道方向进行卷积滤波处理,得到滤波后的投影数据;

根据所述归一化权重函数构造反投影函数,对所述滤波后的投影数据进行逐视角加权反投影操作,实现对被扫描物体的精确重建。

可选的,所述X射线成像系统的物理参数和扫描参数包括X射线光源的焦点尺寸、探测器的尺寸、探测器偏置、旋转几何参数、初始曝光定位偏置、X射线光源曝光位置、被扫物体的物理网格参数。

可选的,所述光源的焦点尺寸包括水平和垂直方向的焦斑尺寸,探测器偏置包括水平和垂直通道方向探测器的物理偏移,探测器的尺寸包括水平和垂直方向的物理单元尺寸,旋转几何参数包括所有射线源曝光位置的信息、射线源的起始角度偏置和采集角度信息,被扫物体的物理网格参数包括网格坐标索引、单元尺寸以及像素物理偏置。

可选的,根据X射线光源的物理参数和位置参数以及探测器的物理参数和位置参数,定位X射线光源与所有探测器单元形成的精确光学路径,并计算给定角度下,射线源的边界与所有探测器单元边界的所处的射线方程,包括:

射线方程为:

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