[发明专利]基板及其所适用的制造方法及功率模块在审

专利信息
申请号: 202011496240.7 申请日: 2020-12-17
公开(公告)号: CN113013152A 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 洪守玉;陈庆东;邹欣;张明准;黄娇平;周锦平 申请(专利权)人: 台达电子企业管理(上海)有限公司
主分类号: H01L25/16 分类号: H01L25/16;H02M1/00;H02M3/155;H02M3/158
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 聂慧荃;郑特强
地址: 201209 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 及其 适用 制造 方法 功率 模块
【权利要求书】:

1.一种基板,包含:

一第一绝缘层,具一上表面及一下表面;

至少一无源元件,内埋于该第一绝缘层内,且具有一第一导接端;

至少一第一通孔,形成于该第一绝缘层内而与该无源元件的一侧相邻,并贯穿第一绝缘层,其中该第一通孔包含一导电部与设置在该导电部内的一绝缘部,且该第一通孔的该导电部与该第一导接端连接而形成一第一电极;

一第二绝缘层,设置于该第一通孔靠近该第一绝缘层的该下表面的一端的该导电部的下方;以及

一第二电极,至少部分设置于该第二绝缘层的下方,并与该第一绝缘层的该下表面接触;

其中,该第二电极的投影与该第一电极的投影在垂直该上表面的方向上至少部分重叠,且该第二电极为与该第一电极不同的电极。

2.如权利要求1所述的基板,其中该导电部包含一侧壁金属层和与该侧壁金属层相连接的至少一表面金属层。

3.如权利要求2所述的基板,其中该第一通孔位于该第一绝缘层的该下表面一端具有该表面金属层,且该第二绝缘层覆盖该第一通孔位于该第一绝缘层的该下表面的一端的该表面金属层。

4.如权利要求2所述的基板,其中该第二绝缘层覆盖该第一通孔靠近该第一绝缘层的该下表面一端的该侧壁金属层。

5.如权利要求4所述的基板,其中该第二绝缘层与该侧壁金属层之间的一接触面位于该第一绝缘层的该上表面及该下表面之间。

6.如权利要求4所述的基板,其中该第二绝缘层位于该第一绝缘层的该下表面。

7.如权利要求1所述的基板,其中该无源元件还具有一本体及一第二导接端,该第二导接端与该第一导接端连接该本体,并分别由该本体内部而往该本体的两相对侧或该本体的两相邻侧或该本体的同一侧延伸而出。

8.如权利要求7所述的基板,其中该基板还包含:

至少一第二通孔,形成于该第一绝缘层内而与该无源元件的另一侧相邻,并贯穿该第一绝缘层,其中该第二通孔还包含一导电部与设置在该第二通孔的该导电部内的一绝缘部,且该第二通孔的该导电部与该第二导接端连接而形成一第四电极;

一第三绝缘层,设置于该第二通孔靠近该第一绝缘层的该上表面的一端的该导电部的上方;以及

一第三电极,该第三电极至少部分设置于该第三绝缘层的上方,并与该第一绝缘层的该上表面接触;

其中,该第四电极的投影与该第三电极的投影在垂直该第一绝缘层的该上表面的方向上至少部分重叠,且该第四电极为与该第三电极不同的电极。

9.如权利要求7所述的基板,其中该基板还包含:

至少一第二通孔,形成于该第一绝缘层内而与该无源元件的另一侧相邻,并贯穿该第一绝缘层,其中该第二通孔还包含一导电部与设置在该第二通孔的该导电部内的一绝缘部,且该第二通孔的该导电部与该第二导接端连接;以及

一第三绝缘层,设置于该第二通孔靠近该第一绝缘层的该上表面的一端的该导电部的上方;

其中,该第一电极沿该第一绝缘层的该上表面延伸到该第二通孔上方并覆盖该第三绝缘层,该第二电极沿该第一绝缘层的该下表面延伸到该第二通孔的下方并与该第二通孔的该导电部连接。

10.如权利要求7所述的基板,其中该第一导接端位于该本体外的部分往该第一绝缘层的该上表面折弯。

11.如权利要求7所述的基板,其中该第一导接端位于该本体外的部分的厚度大于该第一导接端位于该本体内的部分的厚度。

12.如权利要求1所述的基板,其中该第一绝缘层还包含位于该上表面及该下表面之间的多个侧壁,该第二电极更至少部分由该第一绝缘层的该下表面沿相邻的该侧壁延伸至该第一绝缘层的该上表面。

13.如权利要求1所述的基板,其中该无源元件为一电感,且该第一导接端为该电感的绕组的一部分。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台达电子企业管理(上海)有限公司,未经台达电子企业管理(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011496240.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top