[发明专利]一种用于无掩模光刻的投影成像系统

权利要求书

1.一种用于无掩模光刻的投影成像系统，其特征在于：沿着光轴由物面至像面依次包括：第一镜组，光阑，第二镜组，第三镜组，所述第一镜组至少包括1个负透镜和2个正透镜，所述第二镜组包括至少1个负透镜和1个正透镜，所述第三镜组包括至少1个正透镜，

所述投影成像系统满足关系式：

0.5β×f1/f232.1

0.2f23/f31.8

其中，β：成像系统的放大倍率，f1：第一镜组的组合焦距，f23：第二和第三镜组的组合焦距，f3：第三镜组的组合焦距；

所述投影成像系统满足关系式：

0.6-β^1/2×R1/R22.3

其中，β为成像系统的放大倍率，R1为第一镜组中最靠近光阑的镜面的曲率半径，R2为第二镜组中最靠近光阑的镜面的曲率半径；

所述投影成像系统满足关系式：

其中，R1为第一镜中组最靠近光阑的镜面的曲率半径，R2为第二镜组中最靠近光阑的镜面的曲率半径，Hy1为物方最大像高；

第一镜组至少有一个正透镜的物方侧镜面，满足关系式：

其中，R1为第一镜组中最靠近光阑的镜面的曲率半径，R3为第一镜组的正透镜的物方侧镜面的曲率半径，D1为第一镜组中具有曲率半径R1的镜面和具有曲率半径R3的物方侧镜面之间的距离；

第二镜组至少有一个正透镜的像方侧镜面，满足关系式：

其中，R2为第二镜组中最靠近光阑的镜面的曲率半径，R4为第二镜组的正透镜的像方侧镜面的曲率半径，D2为第二镜组中具有曲率半径R2的最靠近光阑的镜面和具有曲率半径R4的镜面之间的距离。

2.根据权利要求1所述的一种用于无掩模光刻的投影成像系统，其特征在于：所述第一镜组中最靠近光阑的透镜为负透镜，该负透镜靠近光阑的镜面为凹面，第一镜组中最靠近物面的正透镜的像方侧镜面为凸面；第二镜组最靠近光阑的透镜为负透镜，该负透镜最靠近光阑的镜面为凹面；第三镜组最靠近像面的正透镜的物方侧镜面为凸面。

3.根据权利要求1所述的一种用于无掩模光刻的投影成像系统，其特征在于：所述第一镜组、第二镜组、第三镜组的透镜分别为球面镜。

4.根据权利要求1所述的一种用于无掩模光刻的投影成像系统，其特征在于：第一镜组沿着光轴由物面至像面依次包括：

第一透镜，其为正透镜，像方侧镜面为凸面；

第二透镜，其为正透镜，物方侧镜面为凸面；

第三透镜，其为正透镜，物方侧镜面为凸面；

第四透镜，其为正透镜，物方侧镜面为凸面；

第五透镜，其为负透镜，像方侧镜面为凹面；

第二镜组沿着光轴由物面至像面依次包括：

第六透镜，其为负透镜，物方侧镜面为凹面；

第七透镜，其为正透镜，像方侧镜面为凸面；

第八透镜，其为正透镜，像方侧镜面为凸面；

第三镜组沿着光轴由物面至像面依次包括：

第九透镜，其为正透镜，像方侧镜面为凸面；

第十透镜，其为正透镜，物方侧镜面为凸面。

5.根据权利要求1所述的一种用于无掩模光刻的投影成像系统，其特征在于：第一镜组沿着光轴由物面至像面依次包括：

第一透镜，其为正透镜，像方侧镜面为凸面；

第二透镜，其为正透镜，物方侧镜面为凸面；

第三透镜，其为正透镜，物方侧镜面为凸面；

第四透镜，其为正透镜，物方侧镜面为凸面；

第五透镜，其为负透镜，像方侧镜面为凹面；

第二镜组沿着光轴由物面至像面依次包括：

第六透镜，其为负透镜，物方侧镜面为凹面；

第七透镜，其为正透镜，像方侧镜面为凸面；

第八透镜，其为正透镜，像方侧镜面为凸面；

第三镜组沿着光轴由物面至像面包括：

第九透镜，其为正透镜，物方侧镜面为凸面。