[发明专利]微流控通道及其控制方法、微流控芯片和分析装置有效
申请号: | 202011498245.3 | 申请日: | 2020-12-17 |
公开(公告)号: | CN112657565B | 公开(公告)日: | 2022-08-19 |
发明(设计)人: | 邓林;丁丁 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 张文姣 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微流控 通道 及其 控制 方法 芯片 分析 装置 | ||
1.一种微流控通道,其特征在于,包括:
第一流道,所述第一流道具有第一入口和第一出口;
第二流道,所述第二流道具有第二入口和第二出口,所述第二出口与所述第一出口相连通,所述第二流道的延伸方向与所述第一流道的延伸方向不同;和
第三流道,所述第三流道具有第三入口,所述第三入口与所述第一出口、所述第二出口相连通,所述第三流道的内壁设置有功能层,所述功能层沿所述第三流道远离所述第三入口的第一方向延伸,且所述功能层可在预定条件下与所述第一方向相垂直的第二方向上伸缩至预定位置,
所述预定条件包括将所述功能层置于电场中、将所述功能层置于磁场中、给所述功能层施加压力或给所述功能层加热中的至少一种,
所述功能层的材料包括电刺激响应致动器或者温敏材料。
2.根据权利要求1所述的微流控通道,其特征在于,所述功能层在所述第二方向上,延伸至所述第三流道的边沿。
3.根据权利要求1所述的微流控通道,其特征在于,所述功能层沿所述第一方向延伸的距离不小于所述第三流道的宽度的2倍。
4.一种微流控芯片,其特征在于,包括:
权利要求1~3中任一项所述的微流控通道;和
盖片,所述盖片设置在所述微流控通道的一侧,并覆盖所述微流控通道。
5.一种分析装置,其特征在于,包括权利要求4所述的微流控芯片。
6.一种权利要求1~3中任一项所述的微流控通道的控制方法,其特征在于,包括:
自第一入口向所述微流控通道的第一流道中通入连续相;
控制所述微流控通道中的功能层在与所述第三流道远离第三入口的第一方向相垂直的第二方向上伸缩至第一预定位置;
自第二入口向所述微流控通道的第二流道中通入第一液滴相。
7.根据权利要求6所述的控制方法,其特征在于,在自所述第二入口向所述微流控通道的所述第二流道中通入所述第一液滴相以后,还包括:
控制所述微流控通道中的所述功能层在所述第二方向上伸缩至第二预定位置;
自所述第二入口向所述第二流道中通入第二液滴相。
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