[发明专利]一种防污型氧敏感膜及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种制备防污型氧敏感膜的方法，其特征在于，所述方法包括如下步骤：

(1)将聚二甲基硅氧烷类化合物PDMS和四乙氧基硅氧烷TEOS混匀，加热回流进行反应；

(2)步骤(1)中反应结束后，加入聚乙二醇类化合物PEG，进行改性反应；

(3)步骤(2)中反应结束后，获得反应液，加入氧敏剂，混匀，获得混合体系；然后均匀涂覆于基底上，固化，即得防污型氧敏感膜；

所述聚二甲基硅氧烷类化合物PDMS的结构如下所示：

其中，R₁，R₂分别独立地选自羟基、H，R₁，R₂可相同或不同；分子量Mw为1000-10000。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述聚乙二醇类化合物PEG的结构如下所示：

其中，R₃为C1-C8烷基，分子量Mw为750。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述PDMS与TEOS的摩尔比为1：1。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，硅氧烷与PEG的摩尔比为1：0.1-1：1。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述氧敏剂包括杂环化合物类、多环芳烃类、过渡金属吡啶基配合物、金属卟啉类配合物。

6.根据权利要求1-5任一项所述的方法，其特征在于，所述氧敏剂相对反应液的浓度为1.0×10^-4mol/L。

7.权利要求1-6任一项所述方法制备得到的一种防污型氧敏感膜。

8.权利要求7所述的防污型氧敏感膜在光学溶解氧传感器构建中的应用。

9.权利要求7所述的防污型氧敏感膜在溶解氧浓度含量测定领域中的应用。