[发明专利]一种掩膜版

权利要求书

1.一种掩膜版，其特征在于，包括：掩膜框架、精细掩膜、支撑掩膜以及掩膜条；

所述掩膜条沿第一方向延伸，且所述掩膜条在所述第一方向上的两末端均设有焊接部，所述掩膜条经由所述焊接部固定设置于所述掩膜框架上；

所述精细掩膜包括中心区和围绕所述中心区的周边区，所述掩膜条设置在所述精细掩膜远离所述掩膜框架的一侧，所述掩膜条包括正对所述中心区的开口区，所述中心区用于固定所述开口区，所述周边区部分固定设置于所述掩膜框架上，所述精细掩模的材质为磁性材质；

所述支撑掩膜沿第二方向延伸，所述支撑掩膜设置在所述掩膜条邻近所述掩膜框架的一侧，且位于所述中心区与所述焊接部之间；其中，所述第一方向与所述第二方向相交，所述支撑掩膜的材质包括非磁性材质。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述掩膜框架包括相对设置的第一横边框和第二横边框、以及与所述第一横边框和所述第二横边框围设成所述掩膜框架的相对设置的第一竖边框和第二竖边框；

所述精细掩膜包括多条沿第一方向延伸的横向掩膜和多条沿第二方向延伸的竖向掩膜，所述横向掩膜包括邻近所述第一横边框的第一横向掩膜、邻近所述第二横边框的第二横向掩膜，所述第一横向掩膜和所述第二横向掩膜均固设于所述第一竖边框和所述第二竖边框上；所述竖向掩膜包括邻近所述第一竖边框的第一竖向掩膜、邻近所述第二竖边框的第二竖向掩膜，所述第一竖向掩膜和所述第二竖向掩膜均固设于所述第一横边框和所述第二横边框上；

所述中心区由所述第一横向掩膜、所述第二横向掩膜、所述第一竖向掩膜以及所述第二竖向掩膜围设形成，所述支撑掩膜包括第一支撑掩膜和第二支撑掩膜，所述第一支撑掩膜设置在所述第一竖向掩膜和所述第一竖边框之间，所述第二支撑掩膜设置在所述第二竖向掩膜和所述第二竖边框之间。

3.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述横向掩膜包括位于所述周边区的周边部，所述周边部具有第一面和与所述第一面相对的第二面，所述第一面朝向所述掩膜框架，所述第二面朝向所述掩膜条；

所述周边部具有自所述第二面朝所述第一面凹陷的凹槽，所述支撑掩膜正对所述横向掩膜的部分位于所述凹槽内。

4.根据权利要求3所述的掩膜版，其特征在于，所述精细掩膜还包括位于所述周边区的细掩膜，所述细掩膜的延伸方向与所述支撑掩膜的延伸方向相同；

所述凹槽所在的区域与所述细掩膜在所述掩膜框架上的正投影不重合，且所述细掩膜在第一方向上的宽度小于所述支撑掩膜在第一方向上的宽度。

5.根据权利要求3或4所述的掩膜版，其特征在于，所述支撑掩膜包括远离所述掩膜框架的顶面，所述顶面与所述第二面平齐。

6.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，所述横向掩膜包括位于所述周边区的周边部，所述周边部具有第一面和与所述第一面相对的第二面，所述第一面朝向所述掩膜框架，所述第二面朝向所述掩膜条；

所述周边部具有自所述第一面朝所述第二面凹陷的第一凹槽，所述第一横边框和所述第二横边框均具有朝远离所述精细掩膜的方向凹陷的第二凹槽；

所述支撑掩膜在所述第二方向上的两末端均位于所述第二凹槽内，所述支撑掩膜与所述横向掩膜正对的部分位于所述第一凹槽内。

7.根据权利要求6所述的掩膜版，其特征在于，所述精细掩膜还包括位于所述周边区的细掩膜，所述细掩膜的延伸方向与所述支撑掩膜的延伸方向相同；

所述第一凹槽所在的区域与所述细掩膜在所述掩膜框架上的正投影不重合，且所述细掩膜在第一方向上的宽度小于所述支撑掩膜在第一方向上的宽度。

8.根据权利要求6或7所述的掩膜版，其特征在于，所述第一凹槽槽深与所述第二凹槽的槽深之和，与所述支撑掩膜的厚度相同。

9.根据权利要求2所述的掩膜版，其特征在于，还包括连接掩膜，所述连接掩膜连接相邻两条所述横向掩膜位于所述掩膜框架的末端。

10.根据权利要求9所述的掩膜版，其特征在于，所述连接掩膜与所述精细掩膜一体成型。