[发明专利]一种大口径柔性光学超构表面结构的加工方法在审

专利信息
申请号: 202011507346.2 申请日: 2020-12-18
公开(公告)号: CN112558419A 公开(公告)日: 2021-03-26
发明(设计)人: 罗先刚;蒲明博;高平;李雄;马晓亮 申请(专利权)人: 中国科学院光电技术研究所
主分类号: G03F7/16 分类号: G03F7/16;G03F7/20
代理公司: 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 代理人: 杨学明
地址: 610209 *** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 口径 柔性 光学 表面 结构 加工 方法
【权利要求书】:

1.一种大口径柔性光学超构表面结构的加工方法,其特征在于:该方法的步骤如下:

步骤(1)、在基底模板上涂覆光刻胶;

步骤(2)、通过光刻系统进行曝光,然后显影;

步骤(3)、将图形转移至基底材料上,并作为模板;

步骤(4)、通过把混合有高折射率纳米颗粒的紫外固化胶涂覆在模板上并覆盖一层柔性基底,采用辊轴一边施加机械压力一边利用紫外灯曝光的方式固化紫外固化胶;

步骤(5)、然后将柔性基底与模板分离,即可制备出大口径柔性光学超构表面结构。

2.根据权利要求1所述的一种大口径柔性光学超构表面结构的加工方法,其特征在于:所述步骤(1)中的光刻胶为电子束光刻胶和紫外光刻胶。

3.根据权利要求1所述的一种大口径柔性光学超构表面结构的加工方法,其特征在于:所述步骤(2)中光刻系统为电子束光刻系统、紫外超分辨光刻系统和紫外超分辨直写系统。

4.根据权利要求1所述的一种大口径柔性光学超构表面结构的加工方法,其特征在于:所述步骤(3)中的图形转移为溶脱剥离、金属辅助化学腐蚀、气体辅助离子束刻蚀和高密度等离子体刻蚀。

5.根据权利要求1所述的一种大口径柔性光学超构表面器件的加工方法,其特征在于:所述步骤(4)中高折射率纳米颗粒为氧化钛、氧化哈、氧化锆、氧化锌、氧化铈、硅,高折射率纳米颗粒的直径≤50nm。

6.根据权利要求1所述的一种大口径柔性光学超构表面器件的加工方法,其特征在于:所述步骤(4)中柔性基底材料为光学透明聚合物和金属玻璃,柔性基底厚度≤500μm;所述紫外光源为面光源和线光源。

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