[发明专利]导电图案及其制备方法、柔性电子设备有效

专利信息
申请号: 202011511567.7 申请日: 2020-12-18
公开(公告)号: CN112635103B 公开(公告)日: 2022-07-29
发明(设计)人: 吴天准;王昊;沙拉.卡黛美;基尤马尔斯.贾利利 申请(专利权)人: 深圳先进技术研究院
主分类号: H01B5/14 分类号: H01B5/14;H01B13/00
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;黄进
地址: 518055 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 导电 图案 及其 制备 方法 柔性 电子设备
【权利要求书】:

1.一种导电图案的制备方法,其特征在于,包括:

步骤S10、通过图案化工艺制备获得图案化的高分子聚合物基底,对所述高分子聚合物基底进行表面处理,在所述高分子聚合物基底的表面产生第一官能团;所述第一官能团包括-COO-基团、-C=O基团、-COOH基团以及-OH基团中的一种或两种以上;

步骤S20、将所述高分子聚合物基底浸入包含小分子化合物的反应液中,所述小分子化合物与所述第一官能团反应而接枝到所述高分子聚合物基底的表面上,所述小分子化合物具有第二官能团;

步骤S30、将包含纳米导电材料的分散液涂覆于所述高分子聚合物基底的表面上,所述纳米导电材料与第二官能团反应而与所述小分子化合物共价键合结合,制备获得所述导电图案;所述第二官能团包括-SH基团、-CN基团和-NH2基团中的一种或两种以上。

2.根据权利要求1所述的导电图案的制备方法,其特征在于,所述步骤S10中,通过等离子表面体处理工艺使所述高分子聚合物基底的表面产生所述第一官能团。

3.根据权利要求1所述的导电图案的制备方法,其特征在于,所述步骤S20中,将所述高分子聚合物基底浸入包含所述小分子化合物的反应液中,并且对所述高分子聚合物基底和反应液进行微波辐射处理。

4.根据权利要求1-3任一所述的导电图案的制备方法,其特征在于,所述步骤S30包括:将包含所述纳米导电材料的分散液涂覆于所述高分子聚合物基底的表面上,然后对所述高分子聚合物基底进行加热,在使用热轧层压机对所述高分子聚合物基底进行热压。

5.根据权利要求1所述的导电图案的制备方法,其特征在于,所述高分子聚合物基底的材料为聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚酰亚胺、聚苯乙烯、聚四氟乙烯或聚偏氟乙烯。

6.根据权利要求1所述的导电图案的制备方法,其特征在于,所述小分子化合物为巯基化合物、氰化物或氨基酸。

7.根据权利要求6所述的导电图案的制备方法,其特征在于,所述小分子化合物为极性小分子化合物。

8.根据权利要求1所述的导电图案的制备方法,其特征在于,所述纳米导电材料为碳基纳米材料或金属纳米材料。

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