[发明专利]一种硅酸锆研磨介质及其制备方法

权利要求书

1.一种硅酸锆研磨介质，其特征在于：原料按重量份具体包括锆英砂50-70份、硅微粉5-7份、滑石粉5-7份、高岭土10-12份和成型助剂3-5份；

该硅酸锆研磨介质由如下方法制备：

步骤一、将锆英砂、硅微粉、滑石粉、高岭土一起倒入装有磁力搅拌器的混合容器中，接着向容器的内部加水，水的添加量为混合料总质量的35％，启动磁力搅拌器，将混合料混合均匀后通入研磨设备中进行原料处理；

步骤二、将混合料一起通过进料盖(14)通入上研磨盘(16)的内部，启动调节组件(2)，伺服电缸(21)驱动轴的顶端带动活动架(22)向下运动，通过活动架(22)带动固定套(23)向下位移，直至调节螺栓(27)伸到进料盖(14)的内部，再通过转动调节手柄(24)，调节手柄(24)带动调节螺杆(26)在连接套(25)的内部进行转动，利用调节螺杆(26)使调节螺栓(27)的底面与上研磨盘(16)的顶面接触，通过调节螺栓(27)使上研磨盘(16)的底面与下研磨盘(17)的顶面之间接触；

步骤三、启动驱动组件(3)，驱动电机(32)输出轴带动驱动齿轮(34)在固定板(33)的底部进行转动，同时驱动齿轮(34)的表面分别与两个偏心轮(36)的表面啮合传动，通过传动轴(35)带动固定板(33)顶部的传动齿轮(38)进行传动，利用传动齿轮(38)的表面与齿圈(37)的内壁之间啮合传动，并且传动轴(35)的顶端与转轴(111)的底端固定连接，带动转轴(111)在转动套(112)的内部进行转动；

步骤四、利用转轴(111)带动下研磨盘(17)在流料盘(18)的内部进行转动，通过下研磨盘(17)和上研磨盘(16)之间的研磨间隙，对上研磨盘(16)内部的物料进行研磨，研磨料通过流料盘(18)流出，接着研磨料落在滤网(12)上，通过滤网(12)进行滤料处理，最后经过滤料处理后的研磨料通过出料管(13)进行收集；

步骤五、向收集的研磨料中加入成型助剂静置3h，对研磨料进行干燥粉碎后得到粉料，通过滚球机将粉料成型，得到素坯球，最后将素坯球烧结，烧结工艺为：10℃/min升温到1000℃，然后2℃/min升温到1300℃，保温5小时，最后自然冷却到室温，得到硅酸锆研磨介质。

2.根据权利要求1所述的一种硅酸锆研磨介质，其特征在于：所述成型助剂采用氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化钇、碳酸钙、碳酸镁、碳酸钾、碳酸钠的组合混合物，且氧化铝、氧化硅、氧化锆、氧化钇、碳酸钙、碳酸镁、碳酸钾、碳酸钠的混合质量比为1:0.8:0.8:1:1:1:0.6:0.3。

3.根据权利要求1所述的一种硅酸锆研磨介质，其特征在于：所述研磨设备包括机架(4)、研磨组件(1)、调节组件(2)和驱动组件(3)，所述机架(4)内部的左侧设置有调节组件(2)，且机架(4)内部的右侧设置有驱动组件(3)，所述驱动组件(3)的顶部设置有研磨组件(1)。

4.根据权利要求3所述的一种硅酸锆研磨介质，其特征在于：所述研磨组件(1)包括接料盘(11)、滤网(12)、出料管(13)、进料盖(14)、上托盘(15)、上研磨盘(16)、下研磨盘(17)、流料盘(18)、下托盘(19)、轴承座(110)、转轴(111)和转动套(112)，所述机架(4)内部的右侧固定连接有接料盘(11)，且接料盘(11)的底部连通有出料管(13)，所述接料盘(11)的内部固定连接有轴承座(110)，且轴承座(110)的顶部固定连接有下托盘(19)，所述下托盘(19)的顶部固定连接有流料盘(18)，且流料盘(18)的内部转动连接有下研磨盘(17)，所述下研磨盘(17)的上方转动连接有上研磨盘(16)，所述上研磨盘(16)的顶部固定连接有上托盘(15)，且上研磨盘(16)的内部与下研磨盘(17)的内部之间通过法兰盘活动连接，所述上研磨盘(16)的底部与下研磨盘(17)的顶部之间设置有研磨间隙。