[发明专利]一种放大型面阵扫频测量装置和方法在审
申请号: | 202011518489.3 | 申请日: | 2020-12-21 |
公开(公告)号: | CN112684462A | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 殷晓君;雷力;于龙;谢谊;李志标 | 申请(专利权)人: | 武汉光目科技有限公司 |
主分类号: | G01S17/08 | 分类号: | G01S17/08;G01S7/481;G01B11/06 |
代理公司: | 武汉华之喻知识产权代理有限公司 42267 | 代理人: | 李君;李欢 |
地址: | 430075 湖北省武汉市东湖高新*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 大型 面阵扫频 测量 装置 方法 | ||
1.一种放大型面阵扫频测量装置,其特征在于,包括可调谐激光器(1)、第一准直器(3)、第一扩束器(4)、第一分束器(5)、镜头(7)、反射元件(11)、相机(8)和采集控制单元;
在原始光束的透射方向上依次设置有所述第一准直器(3)、所述第一扩束器(4)、所述第一分束器(5)和所述反射元件(11);在原始光束经所述第一分束器(5)反射的方向上依次设置有所述镜头(7)、所述第一分束器(5)和所述相机(8);所述可调谐激光器(1)的输出端与所述相机(8)的输入端相连;
所述可调谐激光器(1)用于通过发送触发信号控制所述相机(8)采集干涉图像,并提供原始光束;所述第一分束器(5)用于将经准直和扩束后的光束分为第一光束和第二光束,第一光束照射待测被测物体后反射,形成第一反射光;所述反射元件(11)用于将第二光束反射形成参考光;镜头(7)用于使干涉图像成像在相机(8)上;所述相机(8)用于采集第一反射光和参考光干涉形成的干涉图像;所述采集控制单元用于根据干涉图像分析被测物体的表面形貌。
2.根据权利要求1所述的放大型面阵扫频测量装置,其特征在于,所述反射元件(11)包括第二分束器(16)、第一滤光片(17)、第二滤光片(19)、第一参考反射镜(18)和第二参考反射镜(10);
所述第一参考反射镜(18)和所述第一滤光片(17)构成第一参考臂,其放置方向为原始光束经第一分束器(5)反射的方向;所述第二滤光片(19)和所述第二参考反射镜(10)构成第二参考臂,其放置方向为原始光束的透射方向;所述第一滤光片(17)位于第一参考反射镜(18)和第二分束器(16)之间;所述第二滤光片位于第二参考反射镜(10)和第二分束器(16)之间;
所述第二分束器(16)具有固定且非均匀的分光比,用于将第二光束分为第一参考光束和第二参考光束;所述第一参考反射镜(18)和所述第二参考反射镜(10)分别用于将第一参考光束和第二参考光束反射,形成第二反射光和第三反射光;第一反射光、第二反射光和第三反射光两两干涉形成干涉图像。
3.根据权利要求1所述的放大型面阵扫频测量装置,其特征在于,所述反射元件(11)为倾斜反射元件。
4.一种基于权利要求1所述的放大型面阵扫频测量装置的面阵扫频测量方法,其特征在于,包括以下步骤:
将原始光束依次进行准直和扩束后,分为第一光束和第二光束;
第一光束照射至被测物体后反射形成第一反射光;且第二光束反射后形成参考光;
利用相机采集第一反射光和参考光干涉形成的干涉图像;
根据干涉图像分析被测物体的表面形貌。
5.根据权利要求4所述面阵扫频测量方法,其特征在于,参考光的获取方法为:
将第二光束分为第一参考光束和第二参考光束;
第一参考光束和第二参考光束分别反射后进行滤光处理,获取第二反射光和第三反射光;
其中,参考光包括第二反射光和第三反射光。
6.一种放大型面阵扫频测量装置,其特征在于,包括:可调谐激光器(1)、第一准直器(3)、第一扩束器(4)、第一分束器(5)、镜头(7)、相机(8)、采集控制单元、第一光纤分束器(2)和透射元件;
所述可调谐激光器(1)的输出端连接所述第一光纤分束器(2)的输入端;所述第一光纤分束器(2)的第一输出端连接所述第一准直器(3),其第二输出端连接透射元件;在第一光束经所述第一分束器(5)反射的方向上依次设置有所述镜头(7)、所述第一分束器(5)和所述相机(8);在第一光束的透射方向上依次设置所述第一准直器(3)、所述第一扩束器(4)、所述第一分束器(5)和所述透射元件;
所述可调谐激光器(1)用于通过发送触发信号控制相机采集干涉图像,并提供原始光束;所述第一光纤分束器(2)用于将原始光束分为第一光束和第二光束;所述第一分束器(5)用于将经准直和扩束的第一光束照射至被测物体上,获取反射光;透射元件用于将第二光束传递至第一分束器,形成参考光;所述镜头(7)用于使干涉图像成像在所述相机(8)上;所述相机(8)用于采集反射光和参考光干涉形成的干涉图像,采集控制单元用于根据干涉图像分析被测物体的表面形貌。
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