[发明专利]婴儿足部形态矫正装置在审

专利信息
申请号: 202011519285.1 申请日: 2020-12-21
公开(公告)号: CN112674425A 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 韦洪雷;杨睿;张健;黄延东;梁锐;申浩;崔宇;邹琳;李雪;刘晨;曹礼聪;李小焕 申请(专利权)人: 西南交通大学;四川乐健梦想家科技有限公司;秀王体育集团有限公司
主分类号: A43B7/14 分类号: A43B7/14;A43B17/00;A61F5/01
代理公司: 成都行之专利代理事务所(普通合伙) 51220 代理人: 李朝虎
地址: 610000*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 婴儿 足部 形态 矫正 装置
【说明书】:

发明公开了婴儿足部形态矫正装置,为多层鞋垫结构,从上到下依此包括:保护层、矫正层、压力传感器阵列、基础鞋垫层、半掌鞋跟。保护层直接与足底接触,为透气材质。矫正层分为10个压力区域,每个区域内设有凹槽,各区域内放置有可更换的调节垫。压力传感器阵列分布在矫正层对应的各压力区域下方;所述压力传感器阵列通过蓝牙与外部终端连接。基础鞋垫层直接与鞋底接触,设有有一定厚度的跟托杯。半掌鞋跟用于保护脚跟;所述半掌鞋跟为凝胶材质。本发明通过在矫正层中每个区域内设置多块调节垫的调节方式,方便家长随时进行调整。在矫正层下方辅助设计压力传感器阵列,家长可根据压力监测情况进行调整。

技术领域

本发明涉及行为矫正领域,尤其涉及婴儿足部形态矫正装置。

背景技术

小儿足内翻和足外翻是小儿足部常见畸形,致残率很高。严重时需要采用中医手法矫正或是手术治疗。因此在婴儿时期出现初期症状时,及早进行矫正十分重要。

现有的足内翻和外翻的矫正装置多用于治疗后的大龄儿童的术后恢复,在实际矫正穿用时长时间的运动矫正,脚步承受的压力会越来越大,不利于脚步血液循环和降低脚部压迫感,舒适度差,也限制了踝关节的各向功能活动,不利于关节的功能正常。一次成型的矫正鞋垫的内外侧高低偏差固定无法调节无法满足用户不同强度的矫正需求。婴儿学步期走路受姿势、情绪、穿戴,环境等各方面影响大,繁琐的矫正装置不便于使用。因此需要一种能让家长对婴儿足外翻或内翻初期自行调节的装置。

发明内容

为解决现有的足内翻和外翻的矫正装置不适用于婴儿学步阶段的初期矫正,本发明提供了婴儿足部形态矫正装置。

本发明通过下述技术方案实现:

婴儿足部形态矫正装置,所述婴儿足内翻外翻的矫正装置为多层鞋垫结构,从上到下依此包括:

保护层:直接与足底接触,为透气材质;

矫正层:分为多个压力区域,每个区域内设有凹槽,各区域内放置有可更换的调节垫;

基础鞋垫层:直接与鞋底接触,设有有一定厚度的跟托杯。

在上述技术方案的基础上,进一步的有:

所述基础鞋垫层下部还设置有半掌鞋跟,用于保护脚跟;所述半掌鞋跟为凝胶材质。

在上述技术方案的基础上,进一步的有:

所述基础鞋垫层和半掌鞋跟一体成型,固连在一起。

在上述技术方案的基础上,进一步的有:

所述矫正层分为10个压力区域。

在上述技术方案的基础上,进一步的有:

所述矫正层每个凹槽内设有凸部;各凹槽内放置有可更换的调节垫,调节垫底部设有与凹槽内凸部相适配的孔。

在上述技术方案的基础上,进一步的有:

所述矫正层每个区域可重叠放置1-5块对应尺寸的调节垫,每块调节垫厚度为2mm;每个区域内至少放置一块表面调节垫,和至多4块普通调节垫;

其中,表面调节垫的下表面为平面,上表面与脚底弧度相适配,普通调节垫的上表面和下表面均为平面。

在上述技术方案的基础上,进一步的有:

所述矫正层和基础鞋垫层之间还设置有压力传感器阵列,压力传感器阵列分布在矫正层对应的各压力区域下方。

在上述技术方案的基础上,进一步的有:

所述压力传感器阵列通过蓝牙与外部终端连接。

上文所述压力传感器阵列以及蓝牙传输均为现有技术,本发明将其与矫正层有机的结合在一起,实现了新的技术效果。

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