[发明专利]复合量子点、量子点彩膜、其制备方法及量子点显示器件

说明书

本发明提供了一种复合量子点、量子点彩膜、其制备方法及量子点显示器件。所述复合量子点包括：内核、包裹所述内核的包覆层，以及连接在所述包覆层外表面的配体，所述复合量子点在所述配体解离的状态下呈正电性或负电性。所述量子点彩膜包括绝缘透明基板，和位于所述绝缘透明基板一侧表面的多条相互间隔的像素条带，每一条所述像素条带的区域包含多个像素点区域，所述像素条带为透明导电条带或透明导电条带和复合量子点条带的叠层。所述量子点显示器件包括相叠合的像素级背光源组件和量子点彩膜。本发明提供的量子点彩膜配合像素级背光源，实现了像素级发光；量子点彩膜中无滤光片，有助于提升光通过率和显示光效，降低器件整体功耗。

技术领域

本发明属于量子点显示技术领域，具体涉及一种复合量子点、量子点彩膜、其制备方法及量子点显示器件。

背景技术

量子点材料(Quantum Dot,QD)通过吸收部分波段的蓝光或紫外光，可激发出部分波段的红光、绿光或蓝光。量子点材料的粒径一般介于1～10nm之间，由于电子和空穴被量子限域，连续的能带结构变成分立能级结构，因此发光光谱非常窄(20-30nm)，色度纯高，显示色域广，可大幅超过NTSC的色域范围(100％)；同时通过彩色滤光片光吸收损耗小，可实现低功耗显示。量子点由于其特殊的特性，作为新一代发光材料，在显示应用中正逐渐崭露头角。

量子点彩膜是显示器件实现超高色域全彩显示的关键部件，现有技术是将量子点分散在光刻胶中，再通过光固化和蚀刻等方式，在基材特定区域上实现量子点材料涂布。

CN 105242442A公开了一种量子点彩膜的制备方法，制备的量子点彩膜中蓝色子像素部分为透明有机光阻层，绿色子像素部分为绿色量子点固化胶层，红色子像素部分为绿色量子点固化胶层和红色量子点固化胶层的叠层。该量子点彩膜配合蓝光背光源使用，由于红色子像素部分同时含有绿色量子点和红色量子点，因此红色子像素上还需要设置红色色阻层以滤除绿光。这样会降低光通过率，导致器件整体功耗较高。

CN 105242449A公开了一种量子点彩膜基板的制备方法，先在基板上形成分别对应红色、绿色、蓝色子像素区域的红色色阻层、绿色色阻层、有机透明光阻层，然后涂布包含红色量子点和绿色量子点的固化胶，通过对蓝色子像素区域长时间照射紫外光使该区域量子点荧光猝灭。该量子点彩膜配合蓝光背光源使用，但由于红色子像素区域和绿色子像素区域都同时含有绿色量子点和红色量子点，因此需要红色色阻层和绿色色阻层分别滤除绿光和红光，导致光通过率较低。

CN 105278153A公开了一种量子点彩膜基板的制备方法，采用猝灭剂对蓝色子像素区域的红、绿量子点进行猝灭。CN 105301827A公开了一种量子点彩膜基板的制备方法，采用紫外光引发剂对蓝色子像素区域的红、绿量子点进行猝灭。但是，该方案也同样存在工艺过程复杂，难以实现像素级量子点排布，需要使用滤光片，导致光通过率低，器件整体功耗高的缺点，有待于改进。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种复合量子点、量子点彩膜、其制备方法及量子点显示器件。本发明提供的量子点彩膜配合像素级背光源，实现了像素级发光，具有较高的分辨率，能够实现高品质显示；量子点彩膜中红光、绿光、蓝光像素条带独立排布，可取消滤光片，提升光通过率和显示光效，降低器件整体功耗；且工艺简单，制造成本低，可以实现批量化生产。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

第一方面，本发明提供一种复合量子点，所述复合量子点包括：内核、包裹所述内核的包覆层，以及连接在所述包覆层外表面的配体；

所述内核为量子点，所述配体为具有离子键的有机盐；

所述复合量子点在所述配体解离的状态下呈正电性或负电性。