[发明专利]一种基于氧化硅基平面光波导的磁光非互易器件在审

专利信息
申请号: 202011523579.1 申请日: 2020-12-22
公开(公告)号: CN112526776A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 毕磊;严巍;秦俊;邓龙江 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G02F1/095 分类号: G02F1/095
代理公司: 电子科技大学专利中心 51203 代理人: 闫树平
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 氧化 平面 波导 磁光非互易 器件
【说明书】:

发明属于集成光学领域,具体涉及一种基于氧化硅基平面光波导的磁光非互易器件。本发明采用氧化硅基平面光波导,利用氧化硅基平面光波导低折射率对比度的特点,并通过结合模斑耦合器设计端面波导尺寸,调节氧化硅基平面光波导的端面光斑尺寸,使其与入射模斑趋于一致,有效避免因较大耦合损耗导致的系统信噪比下降等问题。本发明大大降低了集成光学非互易器件与光纤的端面耦合损耗,有效避免了当前领域采用硅波导因较大的耦合损耗导致的系统信噪比下降等问题,并提供了进一步进行端面光纤封装,提高整体器件性能的更优的方案,对降低器件整体损耗,提高信噪比,降低集成光学系统的体积、重量、成本等具有重要意义。

技术领域

本发明属于集成光学领域,具体涉及一种基于氧化硅基平面光波导的磁光非互易器件。

背景技术

非互易光学器件如光隔离器、光环行器等是光电子信息系统的核心组成部分。其中光隔离器通常被用来阻挡系统链路的反射光以保证激光器长时间稳定地工作。然而,分立的光隔离器尺寸大、成本高、难以与激光器、探测器等光学元件耦合。

在现有的硅基集成非互易光学器件的研究中,通过时空调制与光学非线性技术实现的片上光学非互易具有较大的功耗,而通过磁光效应实现的片上非互易光学器件则属于无源器件,可大大降低成本与能耗。然而这样的器件依旧存在显著的问题。首先,单片集成的硅基磁光隔离器与激光器及其后端链路进行封装耦合时会产生较大的耦合损耗。尽管多种模斑耦合器被提出,但由于硅基光波导具有较大的折射率对比度,对光斑的尺寸存在较强的限制,所以单片的耦合损耗依旧难以降低。该耦合损耗会导致系统的信噪比进一步下降,进而影响系统的稳定工作。其次,硅基磁光隔离器的系统集成虽然可以消除与后端链路的耦合损耗,然而由于硅基集成激光器难以实现,故其与激光器的耦合损耗依旧难以消除。

发明内容

针对上述存在问题或不足,为了发展低损耗的集成非互易光学器件,避免因较大的耦合损耗导致的系统信噪比下降等问题,本发明提供了一种基于氧化硅基平面光波导的磁光非互易器件。

该基于氧化硅基平面光波导的磁光非互易器件由氧化硅基平面光波导磁光隔离器(环行器)以及氧化硅基平面光波导模斑转换器组成。

所述氧化硅基平面光波导磁光隔离器(环行器)包括氧化硅基集成的马赫-曾德尔干涉结构以及氧化硅基集成磁光波导,由氧化硅基平面光波导作为基本的光传输单元。

对于氧化硅基集成的马赫-曾德尔干涉结构而言:该结构的两个干涉臂借助180°的弯曲波导对传输进行转向处理,使得转向后的波导是朝相反方向传输的。氧化硅基集成磁光波导则分别设计在氧化硅基集成的马赫-曾德尔干涉结构双臂的正反传输方向上,使得光波在其中一臂的氧化硅基集成磁光波导中的传输是正向的,而在另一臂中则是反向的。氧化硅基集成的马赫-曾德尔干涉结构的双臂中,通过延长单臂的平面光波导传输长度作为互易移相器使得双臂的互易相位差为π/2的奇数倍;设计氧化硅基集成磁光波导的长度,使得该结构的双臂的非互易相位差为π/2。马赫-曾德尔干涉结构的分光与合光部分分别由两个集成3dB耦合器构成。作为氧化硅基平面光波导磁光隔离器,在氧化硅基集成的马赫-曾德尔干涉结构的四个端口中,将同一端面的两个端口中的任意一个端口作为输入端口,并将另一个端口挂起;在另一端面中,将与输入端口传输相隔离的端口挂起,剩下的一个端口作为氧化硅基平面光波导磁光隔离器的输出端口。

所述氧化硅基平面光波导模斑转换器有两个,分别集成在氧化硅基平面光波导磁光非互易器件的输入与输出端口处。每个氧化硅基平面光波导模斑转换器均由渐变的平面脊形光波导组成,该平面脊形光波导的平板层宽度和高度以及脊宽脊高分别可设计。在耦合端面处,平面脊形光波导的截面为与光纤相适应连接的正方形,使得平面光波导的模斑趋于圆形,以匹配光纤的圆形光斑。平面脊形光波导的脊宽沿光纤至平面光波导的方向逐渐变小直至为零,且平面脊形光波导脊宽为零的一端与标准的氧化硅基平面光波导相适应连接。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学,未经电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011523579.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top