[发明专利]形成EUVL防尘薄膜的方法在审

专利信息
申请号: 202011525399.7 申请日: 2020-12-22
公开(公告)号: CN113093471A 公开(公告)日: 2021-07-09
发明(设计)人: M·蒂默曼斯;C·惠耿巴尔特;I·波兰迪亚;E·查普曼斯;E·加拉赫 申请(专利权)人: IMEC非营利协会
主分类号: G03F1/62 分类号: G03F1/62
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 王颖;蔡文清
地址: 比利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 形成 euvl 防尘 薄膜 方法
【权利要求书】:

1.一种形成EUVL防尘薄膜的方法,所述方法包括:

对碳纳米管CNT膜片进行涂覆;以及

将CNT膜片安装到防尘薄膜框架上,

其中,对CNT膜片进行涂覆包括:

用种子材料对膜片的CNT进行预涂覆;以及

在预涂覆的CNT上形成外涂层,外涂层覆盖了预涂覆的CNT,外涂层的形成包括:通过原子层沉积使得涂料材料沉积在预涂覆的CNT上。

2.如权利要求1所述的方法,其中,使种子材料沉积以形成平均厚度范围为0.5nm至4nm、优选0.5nm至3nm、更优选1nm至2nm的种子层。

3.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中,种子材料以0.7埃/秒或更低的速率沉积。

4.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中,使涂料材料沉积以形成平均厚度范围为0.5nm至4nm、优选1nm至2nm的外涂层。

5.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中,种子材料选自下组:C、Zr、ZrN、Hf、HfN、B、B4C、BN、Y、YN、La、LaN、SiC、SiN、Ti、TiN、W、Be、Au、Ru、Al、Mo、MoN、Sr、Nb、Sc、Ca、Ni、Ni-P、Ni-B、Cu、Ag。

6.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中,涂料材料是Zr、Al、B、C、Hf、La、Nb、Mo、Ru、Si、Ti或Y,或者它们的碳化物、氮化物或氧化物。

7.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中,种子材料和涂料材料选自下组:Zr种子材料和ZrO2涂料材料;B种子材料和ZrO2涂料材料、HfO2涂料材料或Al2O3涂料材料;B4C种子材料和ZrO2涂料材料、HfO2涂料材料或Al2O3涂料材料;Zr种子材料和Al2O3涂料材料或ZrAlOx涂料材料;钼种子材料和ZrO2涂料材料。

8.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中,用种子材料对CNT进行预涂覆包括:通过物理气相沉积使种子材料沉积。

9.如权利要求8所述的方法,其中,种子材料通过热蒸发、电子束蒸发或远程等离子体溅射来进行沉积。

10.如权利要求8-9中任一项所述的方法,其中,用种子材料对CNT进行预涂覆包括:从膜片的第一侧沉积种子材料,然后从膜片的第二相对侧沉积种子材料。

11.如权利要求10所述的方法,其中,在沉积工具中进行预涂覆,所述沉积工具包括对膜片进行支撑的基材支架,并且其中,在基材支架连续旋转期间进行种子材料的沉积。

12.如权利要求1-7中任一项所述的方法,其中,用种子材料对CNT进行预涂覆包括:通过电化学沉积或电镀使种子材料沉积。

13.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中,通过热原子层沉积使涂料材料进行沉积。

14.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中,在安装到防尘薄膜框架之前对CNT膜片进行涂覆。

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