[发明专利]一种具有低接触电阻的金属纳米线涂层/聚合物复合材料的制备方法

权利要求书

1.一种具有低接触电阻的金属纳米线涂层/聚合物复合材料的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）在表面活性剂作用下，利用超声或搅拌将金属纳米线分散在水中，金属纳米线与表面活性剂的质量比为100~0.01；

（2）先将金属纳米线分散液涂覆在聚合物基材表面，再干燥处理，经适当的涂覆-干燥循环次数获得金属纳米线涂层/聚合物复合材料；

（3）利用磁控溅射工艺在金属纳米线涂层/聚合物复合材料表面溅射一层可降低金属纳米线接触电阻的金属纳米薄膜，获得具有低接触电阻的金属纳米线涂层/聚合物复合材料。

2.如权利要求1所述的一种具有低接触电阻的金属纳米线涂层/聚合物复合材料的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述的表面活性剂为硬脂酸，聚乙烯基吡咯烷酮，十二烷基苯磺酸钠，月桂基磺化琥珀酸单脂二钠，十六烷基三甲基溴化铵，烷基酚聚氧乙烯醚-10中的至少一种；金属纳米线为银纳米线，铜纳米线，镍纳米线中的至少一种；金属纳米线的直径为1~50 nm，长度为100 nm~100 μm；超声或搅拌时间为5分钟~10小时；金属纳米线分散液的浓度为0.1~50 mg/ml。

3.如权利要求1所述的一种具有低接触电阻的金属纳米线涂层/聚合物复合材料的制备方法，其特征在于，步骤（2）中，所述的聚合物基材为聚酯薄膜，聚乙烯薄膜，天然橡胶薄膜，聚丙烯薄膜，聚酯纤维布，棉纤维布，聚丙烯无纺布，纤维素薄膜中的至少一种；涂覆工艺为浸涂，喷涂，滴涂，刮涂中的一种。

4.如权利要求1所述的一种具有低接触电阻的金属纳米线涂层/聚合物复合材料的制备方法，其特征在于，步骤（2）中，所述的干燥温度为10~100 ℃；干燥时间为0.1小时~50小时，涂覆-干燥循环次数为1~100次。

5.如权利要求1所述的一种具有低接触电阻的金属纳米线涂层/聚合物复合材料的制备方法，其特征在于，步骤（3）中，所述的磁控溅射工艺的靶材为铁靶，镍靶，银靶，铜靶，钴靶中的至少一种。

6.如权利要求1所述的一种具有低接触电阻的金属纳米线涂层/聚合物复合材料的制备方法，其特征在于，步骤（3）中，所述的磁控溅射工艺的溅射功率为1~200 W，溅射气压为0.1~2.0 Pa，溅射时间为1分钟~10小时，温度为10~100℃。

7.权利要求1-6任一所述的一种具有低接触电阻的金属纳米线涂层/聚合物复合材料的制备方法，可制备导电率为0.001~10000 S/cm，电磁屏蔽效能为10~100 dB的具有低接触电阻的金属纳米线涂层/聚合物复合材料。

8.按照权利要求7所述方法制备的具有低接触电阻的金属涂层/聚合物复合材料在导电材料和电磁屏蔽材料领域中的应用。