[发明专利]一种金属银幕及其制备方法

权利要求书

1.一种金属银幕，其特征在于，所述金属银幕包括基层、位于所述基层上的金属层、包覆所述金属层的第一介质层以及经打孔后形成的贯穿所述基层、所述金属层和所述第一介质层的孔洞，所述孔洞是在所述基层上依次沉积所述金属层和所述第一介质层之前直接在所述基层上打孔形成的，使所述孔洞截面处的所述金属层被所述第一介质层覆盖。

2.如权利要求1所述的金属银幕，其特征在于，所述孔洞的直径为200μm～600μm。

3.如权利要求1所述的金属银幕，其特征在于，所述孔洞间距为1000μm～1500μm。

4.如权利要求1所述的金属银幕，其特征在于，所述金属层为金、银、铝、铜中的至少一种。

5.如权利要求1所述的金属银幕，其特征在于，所述金属层的厚度为20nm～200nm。

6.如权利要求1所述的金属银幕，其特征在于，所述金属银幕还包括位于所述基层上表面和所述金属层下表面之间的第二介质层。

7.如权利要求6所述的金属银幕，其特征在于，所述第一介质层和/或所述第二介质层为二氧化硅、二氧化钛、氮化硅中的至少一种。

8.如权利要求7所述的金属银幕，其特征在于，所述第一介质层和/或所述第二介质层的厚度为5nm～50nm。

9.如权利要求6所述的金属银幕，其特征在于，所述金属层和/或所述第一介质层和/或所述第二介质层的沉积方式为蒸发镀膜或溅射镀膜。

10.如权利要求1所述的金属银幕，其特征在于，所述基层具有基层下表面和与所述基层下表面相对的基层上表面，所述基层上表面为不平坦的微结构化表面，所述金属层具有金属层下表面和金属层上表面，所述金属层基本上保形于所述基层上表面，使所述金属层上表面形成与所述基层上表面基本一致的微结构化表面。

11.如权利要求10所述的金属银幕，其特征在于，所述金属层上表面上任一点切线与所述基层下表面平行的平面之间的夹角θ控制在0度至+/-30度之间随机变化。

12.如权利要求10所述的金属银幕，其特征在于，任选一个沿平行于所述基层下表面的方向尺寸大于1mm的区域，所述金属层上表面的结构都由至少两个波峰和至少两个波谷组成，而且波峰波谷具有随机结构。

13.如权利要求11所述的金属银幕，其特征在于，所述金属层上表面上任一点切线与所述基层下表面平行的平面之间的夹角θ出现的几率随夹角θ的角度连续变化。

14.如权利要求13所述的金属银幕，其特征在于，所述夹角θ在0度出现的几率最大，所述夹角θ随着角度绝对值的增大出现的几率连续变小。

15.如权利要求14所述的金属银幕，其特征在于，所述夹角θ出现几率的最大值与最小值之比小于10:1。

16.如权利要求14所述的金属银幕，其特征在于，所述夹角θ出现几率的最大值与最小值之比小于2:1。

17.如权利要求10至16任意一项所述的金属银幕，其特征在于，所述不平坦的微结构化表面的剖面是弧形结构或波状结构。

18.如权利要求17所述的金属银幕，其特征在于，所述金属层的相邻波峰或相邻波谷之间的特征长度L不大于0.5mm。

19.如权利要求17所述的金属银幕，其特征在于，所述金属层的相邻波峰或相邻波谷之间的特征长度L不大于0.05mm。