[发明专利]一种三氟化氮的连续精馏装置在审
申请号: | 202011531168.7 | 申请日: | 2020-12-22 |
公开(公告)号: | CN112569623A | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
发明(设计)人: | 林坤;王少波;马朝选;宋富财;王斌 | 申请(专利权)人: | 中船重工(邯郸)派瑞特种气体有限公司 |
主分类号: | B01D3/14 | 分类号: | B01D3/14;C01B21/083 |
代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 周蜜 |
地址: | 057550 河北省邯*** | 国省代码: | 河北;13 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 氟化 连续 精馏 装置 | ||
本发明涉及一种三氟化氮的连续精馏装置,属于三氟化氮精馏技术领域。一种三氟化氮的连续精馏装置,所述装置包括主框架、控制台、进料入口、除水罐、精馏罐、中馏罐、冷却管、循环泵、离水罐、储水罐、连接管、出气管、蒸汽管、管路以及止回阀。所述装置通过离水罐加热硫酸,使硫酸液中的水汽蒸发进入到储水罐,硫酸液能够循环使用,减少人工更换硫酸的次数,降低试验成本,提升试验的安全性;所述装置不仅结构合理,操作简单,而且能够制备高纯度的三氟化氮,是一种理想的制备高纯三氟化氮的装置。
技术领域
本发明涉及一种三氟化氮的连续精馏装置,属于三氟化氮精馏技术领域。
背景技术
三氟化氮化学式为NF3,沸点为-129.0℃,在常温下是一种无色、无臭、性质稳定的气体,是一种强氧化剂。三氟化氮在微电子工业中作为一种优良的等离子蚀刻气体,在离子蚀刻时裂解为活性氟离子,这些氟离子对硅和钨化合物,高纯三氟化氮具有优异的蚀刻速率和选择性,它在蚀刻时,在蚀刻物表面不留任何残留物,是非常良好的清洗剂,同时在芯片制造、高能激光器方面得到了大量的运用。
专利号为CN203112506U的专利,一种精馏及吸附提纯三氟化氮制备高纯三氟化氮的装置。针对现有制备三氟化氮的装置由于在结构上的一些缺陷,并不能很好地去除粗品三氟化氮中的杂质得到高纯度的三氟化氮,无法满足生产的需求。为了提高三氟化氮纯度,会通过硫酸进行除水,硫酸吸水会浓度贬低,需要经常更换,更换硫酸具有一定的危险,且三氟化氮沸点低,需要液氮冷却,容易冻伤,实验室内人工操作难度较大。
发明内容
为克服现有技术存在的缺陷,本发明的目的在于提供一种三氟化氮的连续精馏装置,所述装置不仅结构合理,操作简单,而且能够制备高纯度的三氟化氮,是一种理想的制备高纯三氟化氮的装置。
为实现本发明的目的,提供以下技术方案。
一种三氟化氮的连续精馏装置,所述装置包括主框架;主框架顶部设置有一处控制台,主框架底部贯穿连接有一处进料入口;进料入口尾端与除水罐贯通连接;除水罐内部装有硫酸液,除水罐上部通过连接管与精馏罐连接;精馏罐顶部贯通连接有出气管,中馏罐设置在精馏罐的外侧,中馏罐顶部与精馏罐上部通过管路连接,中馏罐底部通过管路与精馏罐下部连接;精馏罐外壁设有冷却管,冷却管内部装有液氮,冷却管与加注口贯通连接,冷却管上下端均与位于其一侧的循环泵通过管路贯通连接,循环泵催动冷却管内部液氮,冷却管底部设置有分流口;离水罐通过连通管与除水罐下部连接;离水罐顶部通过蒸汽管与储水罐顶部连接;离水罐下部通过降温管与除水罐连接。
连接管上设有止回阀,出气管上设有止回阀,蒸汽管上设有止回阀,中馏罐与精馏罐连接的管路上设有止回阀;止回阀中设有电机阀门。
优选止回阀包括止回槽和电机阀门,止回阀与电机阀门贯通连接,电机阀门处于进流端,止回阀内侧环绕连接有两处止回槽,止回槽为向内凸起弯曲的弧形条,弯曲方向与流量方向相同,止回槽处于电机阀门后端。
优选冷却管紧贴精馏罐外壁环绕。
优选进料入口尾端设置有五处连接管道,分散进入除水罐内部的硫酸液中。
优选离水罐底部设置有加热炉丝,离水罐与除水罐内部的硫酸液相互连通。
优选降温管中部为弧形圆形管路,降温管中部为弧形与冷却管弧度相同,降温管中部与冷却管底部相邻分布。
有益效果
1.本发明提供了一种三氟化氮的连续精馏装置,所述装置中的止回阀内部设置有止回槽,止回槽的弯曲方向与流向方向相同,弯曲的止回槽防止内部的气体回流,使回流的气体在止回槽的引导下回归正向,同时止回槽降低止回阀内部的直径宽度,使气体速度加快,压强增大,减少回流的发生,同时带走止回槽引导回流的气体。
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