[发明专利]一种正性光刻胶组合物及其制备方法

权利要求书

1.一种正性光刻胶组合物，其特征在于，包括如下质量份数的原料组分：二氧化钛改性酚醛树脂10-30份、光敏剂1-5份、有机硅流平剂0.1-0.3份和有机溶剂40-70份；

其中，所述二氧化钛改性酚醛树脂为分子链接枝有纳米二氧化钛的酚醛树脂；

所述分子链接枝有纳米二氧化钛的酚醛树脂是通过将酚醛树脂与含环氧基团硅烷偶联剂改性后的纳米二氧化钛开环加成反应形成；

所述含环氧基团硅烷偶联剂改性后的纳米二氧化钛是通过将含环氧基团硅烷偶联剂与纳米二氧化钛在醇类溶剂中加热反应得到；

所述含环氧基团硅烷偶联剂为3-缩水甘油醚氧基丙基三甲氧基硅烷、3-缩水甘油醚氧基丙基甲基二乙氧基硅烷或3-缩水甘油醚氧基丙基三乙氧基硅烷中的至少一种。

2.根据权利要求1所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，所述酚醛树脂为甲酚与甲醛缩合的树脂，分子量为2000-20000。

3.根据权利要求1所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，所述酚醛树脂与含环氧基团硅烷偶联剂改性后的纳米二氧化钛的重量比为7-12:1。

4.根据权利要求1-3任一项所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，所述光敏剂为2，3，4，4'-四羟基二苯甲酮和2，1，5-重氮萘醌磺酰氯的酯化物或2，2'，4，4'-四羟基二苯甲酮和2，1，5-重氮萘醌磺酰氯的酯化物。

5.根据权利要求4所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，所述酯化物的酯化度为50-80%。

6.根据权利要求1-3任一项所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，所述有机硅流平剂为聚二甲基硅氧烷或硅油中的至少一种。

7.根据权利要求1-3任一项所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，所述有机溶剂为乳酸乙酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙二醇单甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇单甲醚或二乙二醇单甲醚中的至少一种。

8.根据权利要求1-3任一项所述的正性光刻胶组合物，其特征在于，所述正性光刻胶组合物还包括着色剂、增塑剂或者表面活性剂中的至少一种。

9.一种权利要求1-8任一项所述的正性光刻胶组合物的制备方法，其特征在于，包括：将二氧化钛改性酚醛树脂、光敏剂、有机硅流平剂和有机溶剂混匀。