[发明专利]一种室内应用的弱光型铜铟镓硒太阳能电池的制备方法有效
申请号: | 202011542727.4 | 申请日: | 2020-12-23 |
公开(公告)号: | CN112510120B | 公开(公告)日: | 2022-03-18 |
发明(设计)人: | 胡煜霖;刘宽菲;任宇航 | 申请(专利权)人: | 尚越光电科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L31/032;H01L31/0749 |
代理公司: | 杭州知见专利代理有限公司 33295 | 代理人: | 赵越剑 |
地址: | 311121 浙江省杭州市余杭区五*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 室内 应用 弱光 型铜铟镓硒 太阳能电池 制备 方法 | ||
1.一种室内应用的弱光型铜铟镓硒太阳能电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)使用直流磁控溅射法在玻璃衬底或柔性衬底上沉积Mo背电极;
(2)在Mo背电极上共蒸法沉积CIGS光吸收层;
(3)使用化学水浴法、磁控溅射法或MOCVD法在CIGS光吸收层上沉积缓冲层;
(4)在缓冲层上磁控溅射沉积高阻i-ZnO层或ZnxMg(1-x)O层,以及ITO 层或AZO层;
(5)利用气氛炉对铜铟镓硒太阳能电池进行退火,钝化内部缺陷;
(6)通过丝网印刷、金属热蒸发、铜网压印或内串联激光划线,制备CIGS柔光电池的上电极,获得弱光型铜铟镓硒太阳能电池;
(7)对弱光型铜铟镓硒太阳能电池进行切割,最终获得成品;
步骤(2)中,共蒸法沉积CIGS光吸收层包括如下步骤:
第一步:共蒸发铜、铟、镓、硒金属源,形成高Ga掺杂高载流子浓度的P型CIGS光吸收层;
第二步:共蒸发铜、铟、镓、硒、银金属源,形成低载流子浓度的I型CIGS光吸收层。
2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中,Mo背电极厚度为450-550nm。
3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中,在Mo背电极上先沉积NaF预置层,然后再沉积CIGS光吸收层。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于,沉积NaF预置层具体为:在真空度为1-3×10-3Pa的共蒸发腔中将衬底温度升到150-300℃,于Mo背电极表面共蒸发一层NaF,NaF蒸发源温度为760-800℃,蒸发时间为10-20min。
5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,第一步具体参数设置为:将衬底温度升到450-550℃,In蒸发源温度为930-1020℃,Ga蒸发源温度为1055-1200℃,Cu蒸发源温度为1240-1400℃,Se蒸发源温度为450-500℃,蒸发时间为15-30min;蒸发过程中保持金属源蒸发比例Cu/(Ga+In)为0.80-0.95,Ga/(Ga+In)为0.40-0.45。
6.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,第二步具体参数设置为:将衬底温度保持在500-550℃,In蒸发源温度为930-980℃,Ga蒸发源温度为1070-1180℃,Cu蒸发源温度为1200-1370℃,Ag蒸发源温度为1060-1140℃,Se蒸发源温度为450-500℃,蒸发时间为15-30min;蒸发过程中保持金属源蒸发比例Cu/(Ga+In)为0.80-0.85,Ga/(Ga+In)为0.65-0.70,Ag/(Ag+Cu)为0.4-0.6。
7.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(3)中,所述缓冲层为ZnS缓冲层或In2S3缓冲层;所述缓冲层的厚度为30-50nm。
8.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(4)中,i-ZnO层或ZnxMg(1-x)O层的沉积厚度为160-250nm,其中x的值为0.2-0.5;ITO 层或AZO层的沉积厚度为50-70nm。
9.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(5)中,退火温度为180-230℃,退火时间为24-72h。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的