[发明专利]一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件和模块在审
申请号: | 202011545133.9 | 申请日: | 2020-12-24 |
公开(公告)号: | CN112670345A | 公开(公告)日: | 2021-04-16 |
发明(设计)人: | 陈宇;严丽红;辛藤 | 申请(专利权)人: | 张家港迪源电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L29/16 |
代理公司: | 北京集智东方知识产权代理有限公司 11578 | 代理人: | 吴倩 |
地址: | 215600 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 互联耐 高压 耗尽 功率 sic mosfets 器件 模块 | ||
1.一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:包括SIC衬底(1)、SIC外延层(2)、二维材料薄膜层(3)、氧化物薄膜层(4)和栅电极层(5)、阳极金属(6);
所述SIC衬底(1)的底部设置有所述阳极金属(6);
所述SIC外延层(2)设置在所述SIC衬底(1)的顶部;
所述二维材料薄膜层(3)位于所述SIC外延层(2)的顶部;
所述氧化物薄膜层(4)设置在所述二维材料薄膜层(3)的顶部;
所述栅电极层(5)设置在所述氧化物薄膜层(4)的顶部;
所述SIC外延层(2)的表面上通过注入离子形成位于两侧的第一区域(21)和位于中部的第二区域(22);所述二维材料薄膜层(3)在位于所述第一区域(21)和所述第二区域(22)的位置均开设有沟道;所述第一区域(21)上的沟道处覆盖有第一金属层(211);所述第二区域(22)的沟道处覆盖有第二金属层(221);
所述第一区域(21)与所述SIC外延层(2)为不同导电类型;
所述第二区域(22)与所述SIC外延层(2)为相同的导电类型。
2.如权利要求1所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:所述二维材料薄膜层(3)为MoS2、BN材料、Bi2Te3或Bi2Se3。
3.如权利要求1所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:所述氧化物薄膜层(4)为SiO2或Al2O3。
4.如权利要求1所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:所述所述二维材料薄膜层(3)的厚度范围为20~30nm。
5.如权利要求1所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:所述SIC衬底(1)为碳化硅材料。
6.如权利要求1所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:所述沟道采用干法刻蚀或湿法刻蚀制备而成。
7.如权利要求1所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:所述沟道采用ICP-RIE刻蚀法制备而成。
8.一种SIC MOSFETs模块,其特征在于:包括如权利要求1至7中任意一项所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件。
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