[发明专利]一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件和模块在审

专利信息
申请号: 202011545133.9 申请日: 2020-12-24
公开(公告)号: CN112670345A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 陈宇;严丽红;辛藤 申请(专利权)人: 张家港迪源电子科技有限公司
主分类号: H01L29/78 分类号: H01L29/78;H01L29/16
代理公司: 北京集智东方知识产权代理有限公司 11578 代理人: 吴倩
地址: 215600 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 互联耐 高压 耗尽 功率 sic mosfets 器件 模块
【权利要求书】:

1.一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:包括SIC衬底(1)、SIC外延层(2)、二维材料薄膜层(3)、氧化物薄膜层(4)和栅电极层(5)、阳极金属(6);

所述SIC衬底(1)的底部设置有所述阳极金属(6);

所述SIC外延层(2)设置在所述SIC衬底(1)的顶部;

所述二维材料薄膜层(3)位于所述SIC外延层(2)的顶部;

所述氧化物薄膜层(4)设置在所述二维材料薄膜层(3)的顶部;

所述栅电极层(5)设置在所述氧化物薄膜层(4)的顶部;

所述SIC外延层(2)的表面上通过注入离子形成位于两侧的第一区域(21)和位于中部的第二区域(22);所述二维材料薄膜层(3)在位于所述第一区域(21)和所述第二区域(22)的位置均开设有沟道;所述第一区域(21)上的沟道处覆盖有第一金属层(211);所述第二区域(22)的沟道处覆盖有第二金属层(221);

所述第一区域(21)与所述SIC外延层(2)为不同导电类型;

所述第二区域(22)与所述SIC外延层(2)为相同的导电类型。

2.如权利要求1所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:所述二维材料薄膜层(3)为MoS2、BN材料、Bi2Te3或Bi2Se3

3.如权利要求1所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:所述氧化物薄膜层(4)为SiO2或Al2O3

4.如权利要求1所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:所述所述二维材料薄膜层(3)的厚度范围为20~30nm。

5.如权利要求1所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:所述SIC衬底(1)为碳化硅材料。

6.如权利要求1所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:所述沟道采用干法刻蚀或湿法刻蚀制备而成。

7.如权利要求1所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件,其特征在于:所述沟道采用ICP-RIE刻蚀法制备而成。

8.一种SIC MOSFETs模块,其特征在于:包括如权利要求1至7中任意一项所述的一种新型互联耐高压耗尽型功率SIC MOSFETs器件。

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