[发明专利]一种荧光防伪材料及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种荧光材料，其特征在于，它是蒽基封端的聚氨酯材料；所述聚氨酯材料主链含有聚二甲基硅氧烷结构单元。

2.如权利要求1所述的荧光材料，其特征在于，所述蒽基封端的聚氨酯材料是包括以下原料反应制备而成的荧光材料：端羟基聚二甲基硅氧烷、二异氰酸酯和带蒽基的封端剂。

3.如权利要求2所述的荧光材料，其特征在于，所述端羟基聚二甲基硅氧烷、二异氰酸酯、带蒽基的封端剂的摩尔比为：(3～5):(9～12):(3～5)，优选为4:10.7:4；和/或所述蒽基封端的聚氨酯材料的制备原料还有交联剂，所述交联剂与二异氰酸酯的摩尔比为(2～4):(9～12)，优选为2.7:10.7；

所述反应是在催化剂的催化下聚合的反应，所述催化剂的质量分数为(1～3)％，优选为2％。

4.如权利要求2或3所述的荧光材料，其特征在于，所述二异氰酸酯选自异佛尔酮二异氰酸酯、赖氨酸二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯、4,4'-二环己基甲烷二异氰酸酯或二苯基甲烷二异氰酸酯，优选为异佛尔酮二异氰酸酯；和/或所述交联剂为小分子多元醇或小分子多元胺，优选地，为三羟甲基丙烷、丙三醇、季戊四醇，环己烷三醇，更优选为三羟甲基丙烷；和/或所述带蒽基的封端剂为带蒽基的一元醇或带蒽基的一元胺，优选为9-蒽甲醇、2-氨基蒽，1-氨基蒽，更优选为9-蒽甲醇；和/或所述催化剂选自二月桂酸二丁基锡、辛酸亚锡、新葵酸铋，优选为二月桂酸二丁基锡。

5.如权利要求1～4任一项所述的荧光材料的制备方法，包括以下步骤：

(1)将端羟基聚二甲基硅氧烷、交联剂干燥脱水；

(2)向脱水后的端羟基聚二甲基硅氧烷、交联剂中加入带蒽基的封端剂、二异氰酸酯和催化剂反应；

(3)沉降，洗涤。

6.一种荧光防伪薄膜，其特征在于，它是由权利要求1～4任一项所述的荧光材料制备而成。

7.如权利要求6所述的荧光防伪薄膜，其特征在于，它具有荧光防伪图案；所述荧光防伪图案在可见光照射下不显现，在350nm紫外光照射下显现；或，所述荧光防伪图案可通过升温至150℃以上擦除，或通过254nm的紫外光照射擦除；优选地，所述荧光防伪图案可通过365nm的紫外光照射写入。

8.一种向权利要求6或7所述的荧光防伪薄膜写入荧光防伪图案的方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)将荧光防伪薄膜置于图案化的光掩膜下方；

(2)用365nm的紫外光从光掩膜上方进行照射。

9.一种将权利要求6或7所述的荧光防伪薄膜的荧光防伪图案擦除的方法，其特征在于，包括以下步骤：

(a)将荧光防伪薄膜置于150℃以上的高温环境中；

或(b)用254nm的紫外光照射荧光防伪薄膜。

10.如权利要求1～4任一项所述的荧光防伪材料，和/或权利要求6～7所述的荧光防伪薄膜的防伪用途。