[发明专利]自适应漏射补偿DMLC强度序列化方法、系统、装置及存储介质在审

专利信息
申请号: 202011547717.X 申请日: 2020-12-24
公开(公告)号: CN112657070A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 吴章文;勾成俊;侯氢 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: A61N5/10 分类号: A61N5/10;G16H20/40
代理公司: 成都知都云专利代理事务所(普通合伙) 51306 代理人: 陈钱
地址: 610000 四*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 自适应 补偿 dmlc 强度 序列 方法 系统 装置 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种自适应漏射补偿DMLC强度序列化方法,其特征在于,所述自适应漏射补偿DMLC强度序列化方法包括如下步骤:

设置N个不同角度的射野并对其进行优化,得出优化结果;

根据所述优化结果获取给定的第i射野的注量率分布其中,x方向为MLC叶片运动方向,y方向与x方向垂直,形成笛卡尔坐标系;

对给定的第y个叶片的注量率分布进行离散化,得到所述第i照射野的MLC漏射自适应后的子野分布序列。

2.根据权利要求1所述的自适应漏射补偿DMLC强度序列化方法,其特征在于,对给定的第y个叶片的注量率分布进行离散化的方法包括:

S10:将进行注量率分级,每次照射跳数MU,同时将注量率分布所有位置的值减少MU后得到新的记录中小于或等于0的位置,将位置存入叶片子野序列数组直到中所有值都为0;

其中,

其中,Δt表示MLC运动时控制点的时间间隔,MU表示一个时间间隔的照射量,为加速器剂量率;分别表示MLC的A端叶片序列和B端叶片序列;

S20:将叶片子野序列数组按照从小到大进行排序,获得数组中相邻位置的差值,当差值大于dmax时,则插入一组闭合叶片序列,即分别在数组中加入一个相同的位置值;其中,dmax表示一个时间间隔内MLC叶片能移动的最大距离;

S30:重复步骤S20,直到数组中所有的相邻位置差都小于或等于dmax,此时得到第i射野的初始的子野序列共J个子野,每个子野的照射跳数为MU;

其中,dmax=Vmax×Δt;

其中,dmax表示一个时间间隔内MLC叶片能移动的最大距离,Vmax表示MLC叶片的最大运动速度,Δt表示MLC运动时控制点的时间间隔;

S40:计算子野产生的注量率分布其中,

S50:对序列的注量率分布进行求和运算,得到第i射野的第0次MLC漏射适应的注量率分布:

S60:计算和的歧离其中,

S70:将所述歧离反馈给初始注量率分布,得到第i射野的第一次MLC漏射自适应后的注量分布其中,

S80:重复步骤S10-S70,得到第i射野的第k次MLC漏射自适应后的注量分布序列和注量率歧离分布序列:

S90:随着k的增加,会越来越小;当其达到预设的值后,就得到第i照射野的MLC漏射自适应后的子野分布序列。

3.一种自适应漏射补偿DMLC强度序列化系统,其特征在于,所述自适应漏射补偿DMLC强度序列化系统包括:

射野优化模块,其用于设置N个不同角度的射野并对其进行优化,得出优化结果;

注量率分布获取模块,其用于根据所述优化结果获取给定的第i射野的注量率分布其中,x方向为MLC叶片运动方向,y方向与x方向垂直,形成笛卡尔坐标系;

以及

注量率分布离散化模块,其用于对给定的第y个叶片的注量率分布进行离散化,得到所述第i照射野的MLC漏射自适应后的子野分布序列。

4.一种自适应漏射补偿DMLC强度序列化装置,其特征在于,所述自适应漏射补偿DMLC强度序列化装置包括处理器以及存储器;所述存储器用于存储指令,所述指令被所述处理器执行时,导致所述装置实现如权利要求1或2所述的自适应漏射补偿DMLC强度序列化方法对应的操作。

5.一种计算机可读存储介质,其特征在于,所述存储介质存储计算机指令,当计算机读取存储介质中的计算机指令后,计算机运行如权利要求1或2所述的自适应漏射补偿DMLC强度序列化方法。

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