[发明专利]一种掩膜板和掩膜板制作方法在审

专利信息
申请号: 202011548822.5 申请日: 2020-12-24
公开(公告)号: CN112662995A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 毕娜;白珊珊;刘月 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: C23C14/04 分类号: C23C14/04;C23C14/24;B23P15/00
代理公司: 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人: 姚楠
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 掩膜板 制作方法
【说明书】:

发明公开了一种掩膜板和掩膜板制作方法,以改善现有技术在通过掩膜板形成发光基板的图案时,存在蒸镀位置不准确,容易产生混色的问题。所述掩膜板,用于采用光罩多分割曝光工序形成的母板进行遮挡,所述母板具有因多分割曝光工序形成无法曝光的基板无效区,其中,所述掩膜板包括:金属框架;支撑掩膜板,所述支撑掩膜板位于所述金属框架的一侧;至少一个精细金属掩膜条,所述精细金属掩膜条位于所述支撑掩膜板背离所述金属框架的一侧,具有多个用于对所述母板中子像素蒸镀发光薄膜的开口;支撑板,所述支撑板位于所述金属框架与所述精细金属掩膜板之间,用于对所述基板无效区进行遮挡,所述支撑板的厚度大于所述支撑掩膜板的厚度。

技术领域

本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种掩膜板和掩膜板制作方法。

背景技术

有机电致发光(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示面板目前多采用蒸镀工艺进行制造,掩膜板是蒸镀工艺中的重要设备。掩膜板上具有由多个蒸镀孔形成的镂空图形,有机发光材料蒸汽在蒸镀过程中通过掩膜板上的蒸镀孔沉积到基板上预定的位置处,形成与蒸镀孔的图形相对应的有机发光层图形。

但现有技术在通过掩膜板形成发光基板的图案时,存在蒸镀位置不准确,容易产生混色的问题。

发明内容

本发明提供一种掩膜板和掩膜板制作方法,以改善现有技术在通过掩膜板形成发光基板的图案时,存在蒸镀位置不准确,容易产生混色的问题。

本发明实施例提供一种掩膜板,用于采用光罩多分割曝光工序形成的母板进行遮挡,所述母板具有因多分割曝光工序形成无法曝光的基板无效区,其中,所述掩膜板包括:

金属框架;

支撑掩膜板,所述支撑掩膜板位于所述金属框架的一侧,所述支撑掩膜板包括镂空区,以及包围所述镂空区的框体;

至少一个精细金属掩膜条,所述精细金属掩膜条位于所述支撑掩膜板背离所述金属框架的一侧,具有多个用于对所述母板中子像素蒸镀发光薄膜的开口;

支撑板,所述支撑板位于所述金属框架与所述精细金属掩膜板之间,用于对所述基板无效区进行遮挡,所述支撑板的厚度大于所述支撑掩膜板的厚度。

在一种可能的实施方式中,所述精细金属掩膜条包括有多个蒸镀区,每一所述蒸镀区对应所述母板中的一个子发光基板,所述开口位于所述蒸镀区。

在一种可能的实施方式中,所述支撑掩膜板的所述镂空区划分成多个蒸镀开口,每一所述蒸镀开口对应所述母板中的一个子发光基板;所述开口在所述精细金属掩膜条通体分布。

在一种可能的实施方式中,所述支撑板与所述支撑掩膜板为一体结构。

在一种可能的实施方式中,所述框体包括内边框以及包围所述内边框的外边框,所述外边框背离所述金属框架一侧相对所述内边框减薄,所述支撑掩膜板在所述外边框所在位置与所述金属框架焊接。

在一种可能的实施方式中,所述内边框的厚度与所述支撑板的厚度比值为0.9~1.1。

在一种可能的实施方式中,所述外边框的厚度为所述支撑板厚度的10%~50%。

在一种可能的实施方式中,在所述支撑掩膜板面向所述金属框架的表面内且垂直于所述精细金属掩膜条延伸的方向,所述外边框的宽度占所述框体宽度的五分之一至三分之二;

在所述支撑掩膜板面向所述金属框架的表面内且垂直于所述精细金属掩膜条延伸的方向,所述外边框的宽度占所述金属框架宽度的四分之一至四分之三。

在一种可能的实施方式中,所述支撑板与所述支撑掩膜板为两个分立部件;所述支撑板的两端分别焊接于所述金属框架相对的两边。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011548822.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top