[发明专利]超薄玻璃基板、超薄玻璃基板制程方法和面板制程方法

权利要求书

1.一种超薄玻璃基板，其特征在于，包括：

一玻璃基板(30)，所述玻璃基板(30)的第一侧设有沿预设弯折路径延展的至少一弯折应力消散槽，并且在所述基板区域的边沿形成应力消散边缘；以及

一高分子补强层(24)，所述高分子补强层(24)填充所述弯折应力消散槽，所述高分子补强层(24)露出于所述玻璃基板(30)的上表面与所述玻璃基板(30)的上表面平齐。

2.根据权利要求1所述的超薄玻璃基板，其特征在于，所述高分子补强层的高分子材料透光性≥90％，折射率范围在1.2到1.7，与所述玻璃基板(30)的附着力为5B。

3.根据权利要求1所述的超薄玻璃基板，其特征在于，所述高分子补强层的组分包括增液态光学胶、亚克力、含硅的有机高分子材料、环氧树脂、氟树脂、聚醯胺、聚醯亚胺、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯以及聚对苯二甲酸-1，4-环己二甲酯。

4.根据权利要求1所述的超薄玻璃基板，其特征在于，所述弯折应力消散槽以下中的任意一种：

多个均平行于所述预设弯折路径的多个条形槽；

一沿所述预设弯折路径延展的矩形槽体；

一沿所述预设弯折路径延展的椭圆槽体。

5.根据权利要求1所述的超薄玻璃基板，其特征在于，还包括：一面板功能层(23)，所述面板功能层(23)设置于所述玻璃基板(30)的第一侧，且被所述高分子补强层(24)贴合于所述玻璃基板(30)。

6.根据权利要求1所述的超薄玻璃基板，其特征在于，所述玻璃基板(30)的第二侧也设有被所述高分子补强层(24)填充的所述弯折应力消散槽；且所述第一侧的弯折应力消散槽基于所述玻璃基板(30)的第一投影与所述第二侧的弯折应力消散槽基于所述玻璃基板(30)的第二投影相互错位。

7.一种超薄玻璃基板制程方法，其特征在于，用于制程如权利要求1所述的超薄玻璃基板，包括以下步骤：

S110、提供一玻璃母材(1)，所述玻璃母材(1)上预设n个基板区域(11)和围绕所述基板区域(11)的骨架区域(12)，n大于等于2；

S120、至少在所述玻璃母材的所述基板区域(11)的上下表面分别形成刻蚀保护层，所述刻蚀保护层包括主体区域以及至少一沿预设弯折路径延展的薄化区域；

S130、至少刻蚀所述玻璃母材(1)的骨架区域(12)，令所述基板区域(11)自所述玻璃母材(1)脱离，通过所述薄化区域在所述基板区域(11)沿预设弯折路径形成至少一弯折应力消散槽，并且在所述基板区域(11)的边沿形成应力消散边缘(13)；

S140、去除所述刻蚀保护层得到独立的具有弯折应力消散槽的所述玻璃基板(30)(14)；

S150、在所述弯折应力消散槽中设置高分子补强层，所述高分子补强层(24)露出于所述玻璃基板(30)的上表面与所述玻璃基板(30)的上表面平齐。

8.根据权利要求7所述的超薄玻璃基板制程方法，其特征在于，所述步骤S150中，在所述弯折应力消散槽中通过涂布或喷印的方式加入所述高分子补强层。

9.根据权利要求7所述的超薄玻璃基板制程方法，其特征在于，所述高分子补强层的组分包括增液态光学胶、亚克力、含硅的有机高分子材料、环氧树脂、氟树脂、聚醯胺、聚醯亚胺、聚碳酸酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯以及聚对苯二甲酸-1，4-环己二甲酯。

10.根据权利要求7所述的超薄玻璃基板制程方法，其特征在于，所述步骤S150之后还包括以下步骤：

步骤S160、所述玻璃基板(30)设置所述弯折应力消散槽的一侧，通过所述高分子补强层将所述面板功能层(23)所述玻璃基板(30)，再经过曝光或加热方式固化所述高分子补强层，所述面板功能层(23)包括TFT背板、有机发光层、触控检测层、指纹识别层、盖板中的一种或组合。