[发明专利]显示装置、显示面板及其制备方法

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括依次设置的衬底基板、发光功能层与阴极层；

所述发光功能层包括多个发光单元与像素定义层，所述多个发光单元排布于所述衬底基板上，且各所述发光单元通过所述像素定义层隔离开，所述像素定义层的材质为透明材质；

所述阴极层包括刻蚀去除区与刻蚀保留区，所述刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影落入所述像素定义层在所述衬底基板上的投影内；

其中，在所述发光功能层与所述阴极层之间还包括无机层，所述刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影落入所述无机层在所述衬底基板上的投影内。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述刻蚀保留区部分搭接于所述无机层上。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述无机层远离所述衬底基板的一侧还包括胶层，所述刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影落入所述胶层在所述衬底基板上的投影内；

所述刻蚀保留区部分搭接于所述胶层上。

4.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-3任一项所述的显示面板，以及位于所述显示面板背面的感光元件，所述刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影与所述感光元件在所述衬底基板上的投影重合。

5.一种显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上制备发光功能层，所述发光功能层包括多个发光单元与像素定义层，所述多个发光单元排布于所述衬底基板上，且各所述发光单元通过所述像素定义层隔离开，所述像素定义层的材质为透明材质；

在所述发光功能层上制备阴极层；

刻蚀去除部分所述阴极层，所述阴极层形成刻蚀去除区与刻蚀保留区，所述刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影落入所述像素定义层在所述衬底基板上的投影内；

其中，在所述发光功能层上制备阴极层之前，还包括：

在所述发光功能层上制备无机层；

图形化去除部分所述无机层，使图形化后的无机层在所述衬底基板上的投影与所述像素定义层在所述衬底基板上的投影重合。

6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述发光功能层上制备无机层之后还包括：

在所述无机层上涂覆第一光刻胶，所述第一光刻胶在所述衬底基板上的投影与所述像素定义层在所述衬底基板上的投影重合；

通过曝光显影工艺去除部分所述无机层，使图形化后的无机层在所述衬底基板上的投影与所述像素定义层在所述衬底基板上的投影重合。

7.根据权利要求6所述的显示面板的制备方法，其特征在于，图形化去除部分所述无机层后，所述制备方法还包括：

在所述无机层与所述第一光刻胶上制备整面的所述阴极层；

在所述整面的阴极层上涂覆第二光刻胶，所述发光单元在所述衬底基板上的投影落入所述第二光刻胶在所述衬底基板上的投影内；

通过曝光显影工艺去除部分所述阴极层，所述阴极层形成所述刻蚀去除区与所述刻蚀保留区，所述刻蚀去除区在所述衬底基板上的投影落入所述像素定义层在所述衬底基板上的投影内；所述阴极层的所述刻蚀保留区部分搭接于所述第一光刻胶上。

8.根据权利要求7所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述方法还包括：

去除所述第二光刻胶；

在所述阴极层上制备平坦化层；

在所述平坦化层上制备封装层。