[发明专利]一种黑色亮光聚酰亚胺薄膜及其制备方法

说明书

本发明公开了一种黑色亮光聚酰亚胺薄膜及其制备方法，其原料包括：聚酰亚胺基体，和占聚酰亚胺基体质量3％～10％的碳黑粉体，且所述碳黑粉体先经分散剂进行预处理；所述分散剂为磷酸聚酯、BYK‑9077、硅烷偶联剂、乙烷氧基铝二异丙基、丙烯酸嵌段共聚物中的任意两种或两种以上的混合物。本发明解决了碳黑粉体容易团聚不易分散的问题，在聚酰亚胺薄膜亚胺后得到的成品光泽度高、不透光、膜平整。

技术领域

本发明涉及聚酰亚胺薄膜材料领域，具体的说涉及一种黑色亮光聚酰亚胺薄膜及其制备方法。

背景技术

聚酰亚胺(PI)薄膜自上世纪60年代投入应用以来，因其具有优良的耐热性能、高绝缘性、耐稀酸性、机械性能、介电性能和低热膨胀系数、高耐辐射性能、自熄阻燃性能、无毒等性能而广泛应用于航空航天、国防军工、电子电工、LED、电池等领域，被各国列入21世纪最有希望的工程塑料之一。同时，随着电子技术的飞速发展，对聚酰亚胺薄膜性能的要求也越来越高。

当前电子设备更新升级迅速，其线路排布都需要保密，因此就需要一款可以遮光的聚酰亚胺薄膜。传统方法是在黄色聚酰亚胺薄膜表面涂上黑色油墨，但是黑色油墨并不能耐高温，容易出现油墨剥落的现象，因此出现了添加碳黑填料的不透明黑色聚酰亚胺薄膜。

碳黑本体粒径很小，为纳米级，但是粒径越小的碳黑，表面能越大，粒子间的吸引力越容易产生聚集，尤其是在没有对碳黑粒子充分包覆分散的前提下，脱离浆料体系以后，粒子也会因为粒子间的作用力而再次团聚，从而影响聚酰亚胺薄膜的机械性能和光泽度。因此在使用之前必须把团聚颗粒打开、分散均匀，而简单的高速搅拌分散、超声分散、砂磨球磨分散，无法达到最优的效果，

因此，如何提供一种分散性好的黑色亮光聚酰亚胺薄膜是本领域技术人员亟需解决的技术问题。

发明内容

鉴于上述问题，本发明提供了一种黑色亮光聚酰亚胺薄膜及其制备方法，解决了碳黑粉体容易团聚不易分散的问题，在聚酰亚胺薄膜亚胺后得到的成品光泽度高、不透光、膜平整。

为了实现上述目的，本发明采用如下技术方案：

一种黑色亮光聚酰亚胺薄膜，其原料包括：聚酰亚胺基体，和占聚酰亚胺基体质量3％～10％的碳黑粉体，且所述碳黑粉体先经分散剂进行预处理；所述分散剂为磷酸聚酯、BYK-9077、硅烷偶联剂、乙烷氧基铝二异丙基、丙烯酸嵌段共聚物中的的任意两种或两种以上的混合物。

采用上述技术方案的有益效果：分散剂的使用可以对碳黑表面进行包覆，减少碳黑粒子之间的分子作用力，从而避免碳黑粒子出现团聚现象影响光泽度。

优选的，所述分散剂占所述碳黑粉体质量的2％～20％。

采用上述技术方案的有益效果：分散剂添加2％～20％，既可将碳黑充分包覆又不影响聚酰亚胺基体原有的性质。

优选的，所述聚酰亚胺基体由芳香族二胺和芳香族二酐按照等摩尔比在溶剂中经缩聚反应制得。

优选的，所述硅烷偶联剂为γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷(KH560)、γ-氨丙基三乙氧基硅烷(KH550)中的一种或两种的混合物；所述芳香族二胺为4,4’-二氨基二苯醚(ODA)、间苯二胺(m-PDA)、对苯二胺(p-PD)、2,2-双[4-(4-氨基苯氧基)苯基]丙烷(BAPP)、4,4’-二(4-氨基苯氧基)二苯砜(m-BAPS)中的一种或任意多种的混合物；所述芳香族二酐为均苯四甲酸二酐(PMDA)、3,3’,4,4’-联苯四甲酸二酐(s-BPDA)、2,3,3',4'-联苯四羧酸二酐(α-BPDA)、3,3',4,4'-二苯酮四甲酸二酐(BTDA)、4,4’-联苯醚二酐(ODPA)中的一种或多种的混合物；所述溶剂为N,N-二甲基乙酰胺(DMAC)、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、γ-丁内酯(GBL)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)中的一种或多种的混合物。

上述所述的一种黑色亮光聚酰亚胺薄膜的制备方法，包括以下步骤：