[发明专利]一种可划痕修复的高光ABS组合物及其制备方法

说明书

本发明涉及一种可划痕修复的高光ABS组合物及其制备方法，原料组分包括ABS树脂、PBT树脂、划痕修复剂、相容剂、酯交换抑制剂、成核剂和其他助剂。本发明通过划痕修复剂的加入，并采用酯交换抑制剂调控划痕修复剂在表面富集，利用其在较低温度下熔融再生使材料具有刮痕可修复的特性。

技术领域

本发明属于改性塑料领域，特别涉及一种可划痕修复的高光ABS组合物及其制备方法。

背景技术

丙烯腈-丁二烯-苯乙烯共聚物(ABS)是五大通用塑料之一，具有刚韧平衡的机械性能、高光泽、易成型等优点，因此ABS及其合金材料被广泛应用于家电、汽车等产品。但通用的ABS及其合金经常用于制备高光制品，在转运及使用过程中经常被刮伤，即使是高硬度的ABS/PMMA合金也很难避免划痕，而且划痕产生后往往不可修复。

中国专利CN109553964A公开了一种具有刮痕自修复的尼龙复合材料，利用自修复微胶囊在材料收到刮擦后，释放出的环氧树脂经过反应交联，实现对划痕的修复。然而这种自修复微胶囊容易在双螺杆加工过程中破裂而失效，对于改性塑料改性十分不友好，也限制了其应用。

中国专利CN106832372A公开了一种溶剂熏蒸的方法来修复高分子材料的裂缝的方法，相比自修复微胶囊的方法，该方法无需预先埋植胶囊化或中空纤维化的修复剂；通过熏蒸溶剂的选择可以适用更多的高分子材料。然而该方法需要有一个密闭的溶剂熏蒸环境，对于一些在使用中或大型制品的修复较难进行操作。

此外，本征型修复方法利用可逆化学反应进行自修复，通常包括Diels-Alder反应、动态供价化学、双硫键反应、含氢键超分子结构、π-π对叠和粒子聚合物等，这些体系对于常规改性高分子材料并不适用。

因此，需要寻找一种新的可划痕修复的ABS复合材料。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种可划痕修复的高光ABS组合物及其制备方法，该组合物注塑成的制品刮伤后，通过60-80℃的热风处理即可实现对划痕的淡化和修复。

本发明提供了一种可划痕修复的高光ABS组合物，按质量百分比，原料组分包括：

所述ABS树脂中丙烯腈的重量含量为12-35％，丁二烯的重量含量为8-35％，苯乙烯的重量含量为30-80％。

所述ABS树脂可以选用具有核壳结构的一步法聚合工艺生产的ABS树脂，也可以选用乳液法接枝聚合的丁二烯接枝SAN共聚物掺混丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS树脂，SAN)的两步法工艺生产的ABS树脂；可以选用市售的ABS树脂作为基体树脂，也可以选用一定量和比例的丁二烯接枝SAN共聚物与SAN的掺混物作为基体树脂。

所述PBT树脂在250℃、1.5kg载荷条件下的熔体流动速率为10-25g/10min。

所述划痕修复剂为聚己内酯PCL，其粘均分子量为50000-120000，熔点58-63℃。

所述相容剂为苯乙烯-马来酸酐共聚物、苯乙烯-丙烯腈-马来酸酐共聚物、苯乙烯-丙烯腈-甲基丙烯酸缩水甘油酯共聚物、苯乙烯-N-苯基马来酰亚胺-马来酸酐共聚物中的至少一种。

所述酯交换抑制剂为磷酸盐、焦磷酸盐、亚磷酸酯、烷基磷酸酯中的至少一种。

所述成核剂为纳米蒙脱土、纳米滑石粉中的至少一种。

所述其他助剂为抗氧剂、润滑剂、耐候剂中的至少一种。

所述抗氧剂为抗氧剂1010或抗氧剂168。

所述润滑剂为EBS。

所述耐候剂为二苯甲酮类紫外线吸收剂、苯并三唑类紫外线吸收剂、受阻胺类光稳定剂中的至少一种。