[发明专利]液晶显示面板及显示装置在审

专利信息
申请号: 202011552092.6 申请日: 2020-12-24
公开(公告)号: CN112666742A 公开(公告)日: 2021-04-16
发明(设计)人: 俞云 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1339
代理公司: 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 代理人: 刘泳麟
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 液晶显示 面板 显示装置
【说明书】:

发明提供一种液晶显示面板及显示装置,液晶显示面板包括彩膜基板、阵列基板以及液晶层;彩膜基板的遮光区设置有色阻垫块,色阻垫块包括第一色阻垫块和第二色阻垫块,色阻垫块上设置有黑色光阻层,第一色阻垫块和黑色光阻层堆叠形成主间隔柱,第二色阻垫块和所述黑色光阻层堆叠形成辅助间隔柱;其中,第二色阻垫块在第一衬底基板上的正投影的关键尺寸小于第一色阻垫块在第一衬底基板上的正投影的关键尺寸。通过将黑色光阻层从阵列基板转移至彩膜基板上,将第一色阻垫块和第二色阻垫块采用不同关键尺寸设计来调整实现主间隔柱与辅助间隔柱之间的段差,有助于节省彩膜基板制程、提升产能以及提升生产效率。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种液晶显示面板及显示装置。

背景技术

主动式薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor-LCD,TFT-LCD)近年来得到了飞速的发展和广泛的应用。将黑色光阻材料(Black Photo Spacer,BPS)技术应用于TFT-LCD,有助于节省彩膜基板制程,缩短产品生产流程,具有提升效率和产量以及降低成本等优势。

目前BPS技术开发主要集中在两个方面,一是将彩膜层设计到TFT阵列基板(ColorFilter on Array,COA)的技术,二是将PS设计在TFT阵列基板上(PS on Array,POA)的技术方案产品,现有的液晶显示面板采用COA加POA的设计方案,然而随着大尺寸mask(掩模版/光罩)拼接产品导入,彩膜基板的曝光次数急增,导致彩膜基板制程产能成为了提高生产效率的瓶颈。

综上所述,需要提供一种新的液晶显示面板及显示装置,来解决上述技术问题。

发明内容

本发明提供的液晶显示面板及显示装置,解决了现有的液晶显示面板采用COA加POA设计时,由于大尺寸mask拼接产品导入而导致彩膜基板的曝光次数急增,进而导致彩膜基板制程产能低下的技术问题。

为解决上述问题,本发明提供的技术方案如下:

本发明实施例提供一种液晶显示面板,包括相对设置的彩膜基板和阵列基板、以及设置于所述彩膜基板和所述阵列基板之间的液晶层;

所述彩膜基板包括第一衬底基板,所述第一衬底基板包括多个子像素区以及位于相邻两个所述子像素区之间的遮光区,所述遮光区设置有色阻垫块,所述色阻垫块包括第一色阻垫块和第二色阻垫块,所述色阻垫块上设置有黑色光阻层,所述第一色阻垫块和所述黑色光阻层堆叠形成主间隔柱,所述第二色阻垫块和所述黑色光阻层堆叠形成辅助间隔柱;

其中,所述第二色阻垫块在所述第一衬底基板上的正投影的关键尺寸小于所述第一色阻垫块在所述第一衬底基板上的正投影的关键尺寸。

根据本发明实施例提供的液晶显示面板,所述第二色阻垫块在所述第一衬底基板上的正投影的关键尺寸小于所述第一色阻垫块在所述第一衬底基板上的正投影的关键尺寸的二分之一。

根据本发明实施例提供的液晶显示面板,所述第一色阻垫块在所述第一衬底基板上的正投影的形状为正方形。

根据本发明实施例提供的液晶显示面板,所述第二色阻垫块在所述第一衬底基板上的正投影的形状为“L”形、“Z”形、“S”形以及“I”形中的任意一种。

根据本发明实施例提供的液晶显示面板,在所述色阻垫块朝向所述阵列基板的一侧设置有有机平坦层,所述黑色光阻层设置于所述有机平坦层上。

根据本发明实施例提供的液晶显示面板,在所述有机平坦层朝向所述阵列基板的一侧设置有公共电极层,所述公共电极层设置于所述黑色光阻层和所述有机平坦层之间。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,未经深圳市华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011552092.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top