[发明专利]配置方案选择方法在审
| 申请号： | 202011553685.4 | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112782942A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | M·V·梅德韦德耶瓦;M·I·德拉富恩特瓦伦丁;M·约尔根;G·博特加尔;T·扎卡洛普洛 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 吕世磊 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 配置 方案 选择 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种配置方案选择方法，包括：
从量测目标获得测量结果，量测目标被定位在半导体晶片上，
从器件内目标获得测量结果，器件内目标被定位在所述半导体晶片上，
使用量测目标测量结果以及器件内量测测量结果两者来确定用于准确量测的配置方案。
2.根据权利要求1所述的方法，其中所述量测目标与所述器件内目标紧密接近。
3.根据权利要求1所述的方法，其中所述量测测量结果是光瞳面中的测量结果的对称部分。
4.根据权利要求1所述的方法，其中所述量测测量结果是光瞳面中的测量结果的反对称部分。
5.根据权利要求1所述的方法，其中所述量测测量结果是光瞳面中的测量结果的对称部分和反对称部分。
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