[发明专利]一种提高光学元件激光损伤阈值的方法在审
| 申请号： | 202011555804.X | 申请日： | 2020-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN112526649A | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | 钟强;马新建;吴先云;廖洪平;陈伟;陈秋华 | 申请（专利权）人： | 福建福晶科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/115 | 分类号： | G02B1/115 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 350003 福建*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 提高 光学 元件 激光 损伤 阈值 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种提高光学元件激光损伤阈值的方法，依次包括如下步骤：
（1）基片清洗面次1：通过超声波法将基片清洗干净；
（2）镀制面次1：利用离子束辅助沉积方式，在210℃恒温40min，1.8x10-3Pa真空度下，将设计的膜层镀制到基片S1面；
（3）基片清洗面次2：通过超声波法将基片清洗干净；
（4）镀制面次2：利用离子束辅助沉积方式，在210℃恒温40min，1.8x10-3Pa真空度下，将设计的膜层镀制到基片S2面。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述基片是光学玻璃。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于所述膜层设计包括在基片和高折射率膜层之间增加一层低折射率膜层。
4.根据权利要求1和3所述的方法，其特征在于高折射率膜层为金属氧化物，低折射率膜层为氧化硅。
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