[发明专利]一种二维高性能超高频谐振器在审
申请号: | 202011558722.0 | 申请日: | 2020-12-25 |
公开(公告)号: | CN112688656A | 公开(公告)日: | 2021-04-20 |
发明(设计)人: | 孙成亮;王磊;刘婕妤;周杰;童欣;谢英 | 申请(专利权)人: | 武汉大学 |
主分类号: | H03H9/02 | 分类号: | H03H9/02;H03H9/19;H03H9/64 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 许莲英 |
地址: | 430072 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二维 性能 超高频 谐振器 | ||
1.一种二维高性能超高频谐振器,包括:接触式二维高性能超高频谐振器、非触式二维高性能超高频谐振器;
所述接触式二维高性能超高频谐振器包括:压电层、电极层、电桥;所述电极层沉积于压电层之上;所述电极层包含多个子电极;所述子电极形状为圆环形、椭圆环形、圆环与圆形组合形、椭圆环与椭圆组合形;所述电桥置于压电层上方与所述压电层接触,所述电桥沉积在所述电极层上方,所述电桥与所述子电极连接;所述子电极存在内部空腔,填充温补材料;所述圆环与圆形组合形中,所述圆环与所述圆形通过电桥连接;所述椭圆环与椭圆组合形中,所述椭圆环和所述椭圆通过电桥连接;
所述非触式二维高性能超高频谐振器包括:压电层、电极层、电桥;所述电极层沉积于压电层之上;所述电极层包含多个子电极;所述子电极形状为圆环形、椭圆环形、圆环与圆形组合形、椭圆环与椭圆组合形;所述电桥置于所述电极层上方,所述电桥与所述压电层不接触,所述电桥沉积在所述电极层上方,所述电桥与所述子电极连接;所述子电极与所述电桥之间存在内部空腔,填充空气或温补材料;所述圆环与圆形组合形中,所述圆环与所述圆形通过电桥连接;所述椭圆环与椭圆组合形中,所述椭圆环和所述椭圆通过电桥连接。
2.根据权利要求1所述的二维高性能超高频谐振器,其特征在于:
所述子电极的水平方向间距大于谐振器的波长,所述子电极的竖直方向间距大于谐振器的波长。
3.根据权利要求1所述的二维高性能超高频谐振器,其特征在于:
所述电桥结构的形状为矩形,四边形或多边形。
4.根据权利要求1所述的二维高性能超高频谐振器,其特征在于:
所述压电层的材料为铌酸锂、钽酸锂、氮化铝或掺杂氮化铝。
5.根据权利要求1所述的二维高性能超高频谐振器,其特征在于:
所述电极层的材料选用铂、钼、金、钨、铜或铝。
6.根据权利要求1所述的二维高性能超高频谐振器,其特征在于:
所述电桥的材料选用铂、钼、金、钨、铜或铝。
7.根据权利要求1所述的二维高性能超高频谐振器,其特征在于:
所述温补材料选用二氧化硅等正温度系数材料。
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