[发明专利]跨分割缺口的信号走线结构及信号阻抗优化方法在审
| 申请号： | 202011559318.5 | 申请日： | 2020-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN112867229A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 张春;陈刚;杨昌明 | 申请（专利权）人： | 广州朗国电子科技有限公司 |
| 主分类号： | H05K1/02 | 分类号： | H05K1/02 |
| 代理公司： | 广州市专注鱼专利代理有限公司 44456 | 代理人： | 柴燕 |
| 地址： | 510000 广东省广州市黄埔区*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 分割 缺口 信号 结构 阻抗 优化 方法 | ||
1.跨分割缺口的信号走线结构，其特征在于，包括信号线走线层、第一参考层、第二参考层；所述的信号走线层上设有若干条信号线；所述的第一参考层作为信号线返回路径的第一参考面，所述第一参考面上有分割缺口；所述的第二参考层设置在第一参考层下方，第二参考层为信号线的返回路径提供一个完整的参考面；所述分割缺口正上方的信号线线宽大于信号线的正常线宽。
2.根据权利要求1所述的跨分割缺口的信号走线结构，其特征在于，所述的分割缺口正上方的信号线线宽的计算公式为：
其中：
Z为信号线以第一参考层作为返回路径参考面时的阻抗值；
Er为介电常数；
T为信号线的走线铜箔厚度；
H为信号线距第二参考层的距离；
根据以上已知参数可计算得出分割缺口正上方的信号线线宽H。
3.根据权利要求1所述的跨分割缺口的信号走线结构，其特征在于，所述的分割缺口正上方的信号线线宽的计算公式为：
其中：
Z为信号线以第一参考层作为返回路径参考面时的阻抗值；
Er为介电常数；
T为信号线的走线铜箔厚度；
H为信号线距第二参考层的距离；
根据以上已知参数可计算得出分割缺口正上方的信号线线宽H。
4.跨分割缺口的信号阻抗优化方法，其特征在于，包括：因第一参考面设有分割缺口而导致信号线的信号返回路径断开时，在第一参考面的下方设置第二参考面；计算分割缺口正上方的信号线线宽并根据计算结果设计分割缺口正上方的信号线走线宽度，使得信号线的阻抗值不变。
5.根据权利要求4所述的跨分割缺口的信号阻抗优化方法，其特征在于，所述的分割缺口正上方的信号线线宽的计算公式为：
其中：
Z为信号线以第一参考层作为返回路径参考面时的阻抗值；
Er为介电常数；
T为信号线的走线铜箔厚度；
H为信号线距第二参考层的距离；
根据以上已知参数可计算得出分割缺口正上方的信号线线宽H。
6.根据权利要求4所述的跨分割缺口的信号阻抗优化方法，其特征在于，所述的分割缺口正上方的信号线线宽的计算公式为：
其中：
Z为信号线以第一参考层作为返回路径参考面时的阻抗值；
Er为介电常数；
T为信号线的走线铜箔厚度；
H为信号线距第二参考层的距离；
根据以上已知参数可计算得出分割缺口正上方的信号线线宽H。
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