[发明专利]一种痕量硼掺杂的羟基氧化钴的制备方法及其应用

权利要求书

1.一种痕量硼掺杂的羟基氧化钴的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、提供钴铝水滑石；

S2、将所述钴铝水滑石分散于水中，获得悬浊液A；

将硼氢化物、强碱和水混合均匀，获得混合液；

其中，所述硼氢化物为硼氢化锂、硼氢化钠、硼氢化钾中的一种或几种；

S3、将所述悬浊液A和所述混合液混合，搅拌至完全反应，获得悬浊液B；

S4、对所述悬浊液B依次进行过滤、洗涤、干燥，获得痕量硼掺杂的羟基氧化钴。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，S1中，所述钴铝水滑石的制备方法包括如下步骤：

将水溶性钴盐、水溶性铝盐和尿素溶于水中，获得透明溶液；

其中，所述透明溶液中，水溶性钴盐、水溶性铝盐和尿素的摩尔比为8-12:1:45-55；

将所述透明溶液在95-99℃的油浴中冷凝回流反应2.5-3.5h后，依次固液分离、洗涤、干燥，获得钴铝水滑石粉末。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，S2中，钴铝水滑石和水的质量体积比为0.01-0.03g：5-10mL。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，S2中，硼氢化物、强碱和水的摩尔体积比为0.005-0.011mol：0.05-0.11mol：65-78mL。

5.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，S2中，所述强碱为氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂中的一种或几种。

6.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，S3中，在28-32℃条件下，搅拌10-14h。

7.根据权利要求1-4任一项所述的制备方法，其特征在于，S4中，在58-62℃条件下进行干燥。

8.如权利要求1-7任一项所述的制备方法制备而成的痕量硼掺杂的羟基氧化钴在降解水溶液中的PPCPs中的应用。

9.根据权利要求8所述的应用，其特征在于，将所述痕量硼掺杂的羟基氧化钴和PMS置于所述水溶液中，搅拌。

10. 根据权利要求9所述的应用，其特征在于，每1 L所述水溶液中投加0.05-0.2 g痕量硼掺杂的羟基氧化钴。

11.根据权利要求9所述的应用，其特征在于，搅拌过程中，控制所述水溶液的温度为10-45℃。