[发明专利]具有增大的有效通道宽度的晶体管在审

专利信息
申请号: 202011560339.9 申请日: 2020-12-25
公开(公告)号: CN113053931A 公开(公告)日: 2021-06-29
发明(设计)人: 文成烈;郑荣友 申请(专利权)人: 豪威科技股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L29/423
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 刘媛媛
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 增大 有效 通道 宽度 晶体管
【权利要求书】:

1.一种图像传感器,其包括:

光电二极管,其形成在衬底材料中;及

晶体管,其耦合到所述光电二极管,所述晶体管包括:

沟槽结构,其形成在所述衬底材料中且在通道宽度平面中具有多边形横截面,所述多边形横截面界定所述衬底材料的至少四个侧壁部分;

隔离层,其放置在所述衬底材料上,使得所述隔离层邻近所述沟槽结构的每一侧壁部分放置;及

栅极,其放置在所述隔离层上且延伸到所述沟槽结构中,

其中所述晶体管具有在所述通道宽度平面中测量的有效通道宽度,其比所述晶体管的平面通道宽度更宽。

2.根据权利要求1所述的图像传感器,其中每一侧壁部分具有在所述平面通道宽度中测量的侧壁尺寸,且所述有效通道宽度至少等于每一侧壁部分的所述侧壁尺寸的总和。

3.根据权利要求1所述的图像传感器,其中所述至少四个侧壁部分中的两者具有相同的第一侧壁尺寸,且其中所述至少四个侧壁部分中的其它两者具有相同的第二侧壁尺寸。

4.根据权利要求1所述的图像传感器,其中所述沟槽结构具有约0.150um到约0.200um的深度。

5.根据权利要求1所述的图像传感器,其中多个所述至少四个侧壁部分相对于所述通道宽度平面中的所述衬底材料的背面或正面呈对角。

6.根据权利要求1所述的图像传感器,其中所述至少四个侧壁部分包含底部侧壁部分,其大致平行于所述衬底材料的背面或正面。

7.根据权利要求6所述的图像传感器,其中所述底部侧壁部分具有约0.030um到约0.050um的宽度。

8.根据权利要求1所述的图像传感器,其中所述多边形横截面具有菱形形状。

9.根据权利要求1所述的图像传感器,其中所述沟槽结构在通道长度平面中具有多边形横截面。

10.根据权利要求1所述的图像传感器,其中所述晶体管为第一晶体管,且所述图像传感器进一步包含与所述第一晶体管电通信的第二晶体管,所述第二晶体管包括:

第二沟槽结构,其形成在所述衬底材料中,在第二通道宽度平面中具有第二多边形横截面,所述第二多边形横截面界定所述衬底材料的至少四个第二侧壁部分;

第二隔离层,其放置在所述衬底材料上,使得所述第二隔离层邻近所述第二沟槽结构的每一第二侧壁部分放置;及

第二栅极,其放置在所述第二隔离层上且延伸到所述第二沟槽结构中,

其中所述第二晶体管具有在所述第二通道宽度平面中测量的第二有效通道宽度,其比所述第二晶体管的第二平面通道宽度更宽。

11.根据权利要求10所述的图像传感器,其中所述第一晶体管是源极跟随器晶体管且所述第二晶体管是行选择晶体管。

12.根据权利要求10所述的图像传感器,其中所述第一多边形横截面及所述第二多边形横截面具有菱形形状。

13.根据权利要求1所述的图像传感器,其中所述晶体管进一步包括:

隔离植入物,其在所述衬底材料中放置在所述沟槽结构与所述光电二极管之间;

间隔件,其放置在所述栅极周围;及

电介质层,其放置在所述栅极及所述隔离层上方。

14.根据权利要求1所述的图像传感器,其中所述至少四个侧壁部分中的至少两者相对于所述衬底材料的背面或正面形成约40度到约60度之间的角度。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于豪威科技股份有限公司,未经豪威科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011560339.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top