[发明专利]用于校正基板上的不均匀图像图案的方法、计算机系统和非暂时性计算机可读介质

权利要求书

1.一种用于校正基板上的不均匀图像图案的方法，包括：

测量安装在图像投影系统中的数字微镜装置(DMD)的旋转角度，其中所述DMD具有多个列，并且每个列具有多个镜；

响应于测量到的旋转角度而禁用所述DMD中的所述多个列的至少一整列镜来校正线边缘粗糙度以避免曝光缺陷；

将包括多个点的基板栅格放置在所述基板的顶上；

将包括多个点的DMD形心栅格与所述基板栅格叠加；

将所述基板的第一部分曝光于第一电磁辐射范围；和

反复地使所述基板平移步长并且将所述基板的另一部分曝光于另一电磁辐射范围，直至所述基板完全地曝光于电磁辐射范围。

2.如权利要求1所述的方法，其中禁用所述DMD中的所述多个列的至少一整列镜包括：

搜索具有关于所述DMD的所述旋转角度和所期望的发射数的数据的表格，以确定在所述DMD中要禁用的所述镜列数量。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述步长由发射数除以所述DMD的长度来确定。

4.如权利要求1所述的方法，其中曝光在所述基板上形成图案以曝光光刻胶。

5.如权利要求1所述的方法，其中每次曝光都产生数据集，其中每个数据集存储在存储器中，并且其中每个数据集经组合以在所述基板上形成聚合图像。

6.如权利要求1所述的方法，其中所述基板的一部分曝光于所述第一电磁辐射范围，在所述一部分中所述DMD形心栅格的所述多个点定位于一个或多个形状上方。

7.如权利要求1所述的方法，其中所述基板的所述第一部分曝光于所述第一电磁辐射范围达45微秒至85微秒。

8.如权利要求7所述的方法，其中所述基板栅格的所述多个点是多个等距间隔的点，并且其中所述DMD形心栅格的所述多个点是多个等距间隔的点。

9.一种用于校正基板上的不均匀图像图案的计算机系统，包括：

处理器；和

存储器，存储指令，所述指令在由所述处理器执行时引起所述计算机系统：

测量安装在图像投影系统中的数字微镜装置(DMD)的旋转角度，其中所述DMD具有多个列，并且每个列具有多个镜；

响应于测量到的旋转角度而禁用所述DMD中的所述多个列的至少一整列镜来校正线边缘粗糙度以避免曝光缺陷；

将包括多个点的基板栅格放置在所述基板的顶上；

将包括多个点的DMD形心栅格与所述基板栅格叠加；

将所述基板的第一部分曝光于第一电磁辐射范围；和

反复地使所述基板平移步长并且将所述基板的另一部分曝光于另一电磁辐射范围，直至所述基板完全地曝光于电磁辐射范围。

10.如权利要求9所述的计算机系统，其中禁用所述DMD中的所述多个列的至少一整列镜包括：

搜索具有关于所述DMD的旋转角度和所期望的发射数的数据的表格，以确定在所述DMD中要禁用的所述镜列数量。

11.如权利要求9所述的计算机系统，其中所述步长由发射数除以所述DMD的长度来确定。

12.如权利要求9所述的计算机系统，其中曝光在所述基板上形成图案以曝光光刻胶。

13.如权利要求9所述的计算机系统，其中每次曝光都产生数据集，其中每个数据集存储在存储器中，并且其中每个数据集经组合以在所述基板上形成聚合图像。

14.如权利要求9所述的计算机系统，其中通过至少一个图像投影来执行曝光。

15.如权利要求9所述的计算机系统，其中所述基板的所述第一部分曝光于所述第一电磁辐射范围达45微秒至85微秒。