[发明专利]有机膜形成材料、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及化合物在审
申请号: | 202011564357.4 | 申请日: | 2020-12-25 |
公开(公告)号: | CN113050373A | 公开(公告)日: | 2021-06-29 |
发明(设计)人: | 郡大佑;中原贵佳;美谷岛祐介;野田和美 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004;G03F7/027;G03F7/11;C07D307/88;C07D493/10;C07D311/82;C07D233/74;C07D239/62;C07D251/30;C07D487/04;C07C69/736 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 形成 材料 方法 图案 以及 化合物 | ||
1.一种有机膜形成材料,其特征为包含下列通式(1)表示的化合物及有机溶剂;
该通式(1)中,X为碳数2~50的n1价的有机基团,n1表示2~10的整数,R1为下列通式(2)~(4)中的至少一者以上;
该通式(2)中,*代表对于前述有机基团X的键结部位,Ra及Rb表示氢原子、或碳数1~10的直链或分支状的饱和或不饱和的烃基,Rc表示氢原子、甲基或苯基,m1及m2表示0或1的整数,n2及n3表示1~7的整数,符合1≤n2+n3≤7的关系,n4表示1~10的整数;
该通式(3)中,*代表对于前述有机基团X的键结部位,Rd及Re表示氢原子、或碳数1~10的直链或分支状的饱和或不饱和的烃基,Rf表示氢原子、甲基或苯基,m3及m4表示0或1的整数,n5及n6表示1~7的整数,符合1≤n5+n6≤7的关系;l1表示0或1,l1=1时,氧原子作为醚键而形成芳香环间的桥联结构,l1=0时,不存在成为芳香环间的桥联结构的醚键;
该通式(4)中,*代表对于前述有机基团X的键结部位,Rg及Rh表示氢原子、或碳数1~10的直链或分支状的饱和或不饱和的烃基,m5及m6表示0或1的整数,n7及n8表示1~7的整数且符合1≤n7+n8≤7的关系;l2表示0或1,l2=1时,氧原子作为醚键而形成芳香环间的桥联结构,l2=0时,不存在成为芳香环间的桥联结构的醚键。
2.根据权利要求1所述的有机膜形成材料,其中,该通式(1)中的该有机基团X为下列通式(5)、(7)、(8)、(9)、(10)、(11)、(12)、(13)、(14)及(15)中的任意者;
该通式(5)中,m7及m8各自独立地表示0或1,W为单键或下列(6)所示结构中的任意者;R1为前述R1基团,且n9及n10各自独立地表示0至4的整数,n9+n10为1以上8以下;
该通式(6)中,n11表示0至3的整数,Ri、Rj、Rk、Rl、Rm及Rn互相独立地表示氢原子、或也可以经氟取代的碳数1~10的烷基或苯基,Ri与Rj也可键结而形成环状化合物;
该通式(7)中,R1为前述R1基团,Ro表示氢原子、甲基或苯基;
该通式(8)~(12)中,R1为前述R1基团,Rp、Rq、Rr、Rs、Rt、Ru及Rv各表示氢原子、碳数1~10的烷基、碳数2~10的炔基、碳数2~10的烯基、或在芳香环上也可以有取代基的苄基或苯基;Y表示前述R1基团、氢原子、碳数1~10的烷基、碳数2~10的炔基、或碳数2~10的烯基,且式(12)中的4个Y中的至少二者为前述R1基团;
R1O-Rw-OR1 (13)
该通式(13)中的Rw表示碳数1~20的直链、分支状、或环状的饱和或不饱和的烃基,该通式(14)中的Rx表示氢原子或碳数1~10的烷基;该通式(13)~(15)中的R1为前述R1基团。
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