[发明专利]一种氧化铈的合成方法及其使用方法

权利要求书

1.一种氧化铈的合成方法，其特征在于，包括

将铈源水溶液添加至沉淀剂溶液中，生成原料溶液；

向原料溶液中通入氮气，并充分搅拌所述原料溶液；

过滤所述原料溶液，得到沉淀物；

氮气保护下干燥所述沉淀物；

氮气保护下焙烧所述沉淀物，得到所述氧化铈。

2.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，

所述铈源含有Ce³⁺和Ce⁴⁺，Ce³⁺/Ce⁴⁺的摩尔比为1/1-1/1000。

3.如权利要求2所述的合成方法，其特征在于，

所述Ce³⁺/Ce⁴⁺的摩尔比为1/10-1/100。

4.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，

所述铈源与所述沉淀剂的摩尔比为(1.0/3.5)-(1.0/6.0)。

5.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，

所述铈源为可溶性铈盐。

6.如权利要求5所述的合成方法，其特征在于，

所述可溶性铈盐为氯化铈，硝酸铈，醋酸铈，硝酸铈铵，硫酸铈中的一种或多种。

7.如权利要求6所述的合成方法，其特征在于，

所述可溶性铈盐为硝酸铈和/或硝酸铈铵。

8.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，

所述铈源水溶液的浓度为0.1M-1.0M。

9.如权利要求8所述的合成方法，其特征在于，

所述铈源水溶液的浓度为0.2M-0.6M。

10.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，

所述沉淀剂为可溶性碱。

11.如权利要求10所述的合成方法，其特征在于，

所述可溶性碱为氢氧化钠，氢氧化钾，氨水中的一种或多种。

12.如权利要求11所述的合成方法，其特征在于，

所述可溶性碱为氨水。

13.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，

所述沉淀剂溶液的浓度为0.1M-3.0M。

14.如权利要求13所述的合成方法，其特征在于，

所述沉淀剂溶液的浓度为0.5M-1.5M。

15.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，

所述氮气保护下焙烧温度为300-750℃。

16.如权利要求15所述的合成方法，其特征在于，

所述氮气保护下焙烧温度为400-750℃。

17.如权利要求1所述的合成方法，其特征在于，

所述焙烧时间为1.0-8.0h。

18.如权利要求17所述的合成方法，其特征在于，

所述焙烧时间为3.0-6.0h。

19.一种氧化铈的使用方法，将如权利要求1-18中任一所述的氧化铈用于化学机械抛光。