[发明专利]一种用于有机物脱除的新型荷电纳滤膜及其制备方法

权利要求书

1.一种用于有机物脱除的荷电纳滤膜的制备方法，其特征在于，该方法包括如下步骤：

（1）将聚砜树脂溶于N,N-二甲基甲酰胺和乙二醇的混合物中，并在60-80℃下搅拌脱气，得到透明均一的树脂铸膜液；

（2）以无纺布为基底，将所述树脂铸膜液涂覆于所述无纺布上，然后置于去离子水中相转化成孔，即得到多孔聚砜基膜；

（3）配制缓冲液：配制磷酸氢二钠—柠檬酸缓冲液、柠檬酸-柠檬酸钠缓冲液或醋酸-醋酸钠缓冲液中的任一种；

（4）配制水相液：在所述缓冲液中加入壳聚糖、哌嗪单体和抗污染添加剂并搅拌均匀，得到水相液；

（5）配制油相液：将均苯三甲酰氯和间苯二甲酰氯混合加入有机溶剂中并搅拌均匀，得到油相液；

（6）裁剪所述多孔聚砜基膜并置于涂膜框中，然后放入所述水相液中浸泡，浸泡后除去所述多孔聚砜基膜表面的水相液；

（7）将在所述水相液中浸泡后的所述多孔聚砜基膜再放入所述油相液中聚合；

（8）聚合后，烘干，即得到用于有机物脱除的荷电纳滤膜；

步骤（1）中所述N,N-二甲基甲酰胺和所述乙二醇的体积比为（95-97）：（3-5）；

步骤（4）中所述抗污染添加剂为聚乙烯醇，且所述的聚乙烯醇聚合度为2.5-3.5万和醇解度为85-88%；所述的水相液中壳聚糖占0.2-0.5wt%；所述水相液中哌嗪单体占0.02-0.10wt%；所述水相液中抗污染添加剂占0.1-0.5wt%；

步骤（5）中所述均苯三甲酰氯和所述间苯二甲酰氯的质量比为（2-4）：1，且所述油相液中所述均苯三甲酰氯和所述间苯二甲酰氯占0.15-0.20wt%；所述的有机溶剂选自IsoparL、IsoparG、环己烷、癸烷中的一种或几种的混合物。

2.根据权利要求1所述的一种用于有机物脱除的荷电纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤（1）中所述的树脂铸膜液中聚砜树脂占17-19wt%。

3.根据权利要求1所述的一种用于有机物脱除的荷电纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤（2）以无纺布为基底，将所述的树脂铸膜液涂覆于所述无纺布上，用刮膜器或涂布线棒刮平，涂膜厚度为150-200μm，然后置于常温去离子水中相转化成孔，除去多余溶剂，即得到多孔聚砜基膜。

4.根据权利要求1所述的一种用于有机物脱除的荷电纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤（3）配制缓冲液：在去离子水中加入磷酸氢二钠和柠檬酸搅拌形成磷酸氢二钠—柠檬酸缓冲液或者加入柠檬酸和柠檬酸钠搅拌形成柠檬酸-柠檬酸钠缓冲液或者加入醋酸和醋酸钠搅拌形成醋酸-醋酸钠缓冲液；所述磷酸氢二钠和所述柠檬酸的质量比为2：1；所述柠檬酸和所述柠檬酸钠质量比为2：1；所述醋酸和所述醋酸钠的质量比为2：1；上述几种缓冲液中去离子水均占94%。

5.根据权利要求1所述的一种用于有机物脱除的荷电纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤（6）裁剪所述多孔聚砜基膜并置于涂膜框中，然后放入所述水相液中浸泡0.5-1分钟，浸泡后用压缩空气去除所述多孔聚砜基膜表面的水相液。

6.根据权利要求1所述的一种用于有机物脱除的荷电纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤（7）将所述多孔聚砜基膜再放入所述油相液中聚合20-30秒。

7.根据权利要求1所述的一种用于有机物脱除的荷电纳滤膜的制备方法，其特征在于，步骤（8）所述的烘干温度为80-90℃，烘干时间为5-10分钟。

8.一种用于有机物脱除的荷电纳滤膜，其特征在于，采用权利要求1-7任一项所述的制备方法制得。