[发明专利]一种在线式镀膜均匀性调整机构在审
申请号: | 202011570133.4 | 申请日: | 2020-12-26 |
公开(公告)号: | CN112575305A | 公开(公告)日: | 2021-03-30 |
发明(设计)人: | 刘旭 | 申请(专利权)人: | 北京北方华创真空技术有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/54 |
代理公司: | 北京维正专利代理有限公司 11508 | 代理人: | 李传亮 |
地址: | 102600 北京市大兴区北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 在线 镀膜 均匀 调整 机构 | ||
本申请涉及一种在线式镀膜均匀性调整机构,属于镀膜设备领域,包括:调节组件,调节组件包括从外到内依次同轴设置的且能够相对旋转的若干个调节杆;若干个传动组件,传动组件的数量与调节杆的数量相同,若干个传动组件与若干个调节杆位于镀膜腔室内部的部分一一对应传动连接;挡板组件,与若干个传动组件传动连接,挡板组件包括若干个子挡板,子挡板的数量与传动组件的数量相同且一一对应,子挡板能够在调节杆和传动组件的带动下运动从而调节子挡板与设置于镀膜腔室内的固定挡板之间的开口范围。本申请提供的一种在线式镀膜均匀性调整机构具有结构简单、紧凑的优点。
技术领域
本申请涉及镀膜设备技术领域,尤其涉及一种在线式镀膜均匀性调整机构。
背景技术
物理气相沉积(PVD)技术是在真空条件下,通过物理的方法将材料源(固体或液体)表面轰击出或气化成气态原子、分子或部分电离成离子,并通过电场、磁场或等离子体的作用,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜。在相关技术中,以磁控溅射镀膜为例,为了提高基体表面所形成的薄膜的均匀性,通常采用具有多个平行轴的调整机构来带动挡板运动,挡板运动时能够改变溅射宽度范围,从而进一步调节膜材在基板上的沉积量,达到对膜层厚度进行在线调整的目的。
针对上述中的相关技术,发明人认为膜厚均匀性调整机构存在结构复杂、占用空间大的缺陷。
发明内容
为了改善相关技术中膜厚均匀性调整机构存在的结构复杂、占用空间大的缺陷,本申请提供一种在线式镀膜均匀性调整机构。
本申请提供的一种在线式镀膜均匀性调整机构采用如下的技术方案:
一种在线式镀膜均匀性调整机构,包括:
调节组件,所述调节组件包括从外到内依次同轴设置且能够相对旋转的若干个调节杆,在镀膜腔室内部,位于内层的调节杆从位于外层的调节杆内伸出,位于最外层的所述调节杆的一端从镀膜腔室的侧壁穿出;在镀膜过程中,所述调节组件能够使镀膜腔室内保持密闭状态;
若干个传动组件,所述传动组件的数量与所述调节杆的数量相同,若干个所述传动组件与若干个所述调节杆位于镀膜腔室内部的部分一一对应传动连接;
挡板组件,与若干个传动组件传动连接,所述挡板组件包括若干个子挡板,所述子挡板的数量与所述传动组件的数量相同且一一对应,所述子挡板能够在调节杆和传动组件的带动下运动从而调节子挡板与设置于镀膜腔室内的固定挡板之间的开口范围。
通过采用上述技术方案,提高了镀膜均匀性调整机构的结构紧凑性,简化了结构。
可选的,位于最外层的所述调节杆与镀膜腔室侧壁之间以及相邻的调节杆之间均设置有密封结构。
通过采用上述技术方案,在镀膜过程中,在调节子挡板与固定挡板之间的开口范围时能够保持镀膜腔室内的真空气氛。
可选的,若干个所述子挡板沿着固定挡板长度方向的尺寸相同。
可选的,当子挡板的数量为三个时,位于中间的子挡板沿着固定挡板长度方向的尺寸大于位于两端的子挡板沿着固定挡板长度方向的尺寸,并且位于两端的子挡板的尺寸相同。
可选的,所述传动组件包括设置于调节杆外表面的齿轮,所述子挡板靠近调节组件的一侧表面设置有齿条,所述齿轮与所述齿条啮合。
可选的,所述传动组件包括曲柄和连杆,所述曲柄垂直于调节杆外表面并与调节杆固定连接,所述连杆的一端与所述曲柄远离调节杆的一端铰接,所述连杆的另一端与子挡板靠近调节杆的一侧表面铰接。
可选的,相邻的两个所述调节杆中,内层的所述调节杆的远离传动组件的一端位于外层的所述调节杆的内部;
所述调节杆远离传动组件的一端的端部设置有槽口。
通过采用上述技术方案,便于对调节杆进行旋转。
可选的 ,所述调节杆远离传动组件的一端的端部设置有刻度。
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