[发明专利]一种钕铁硼材料及其制备方法有效
申请号: | 202011573278.X | 申请日: | 2020-12-25 |
公开(公告)号: | CN112768168B | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
发明(设计)人: | 王金磊;黄清芳;黎国妃;兰秋连;李可 | 申请(专利权)人: | 福建省长汀金龙稀土有限公司 |
主分类号: | H01F1/057 | 分类号: | H01F1/057;H01F41/02 |
代理公司: | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人: | 王卫彬;邹玲 |
地址: | 366300 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 钕铁硼 材料 及其 制备 方法 | ||
1.一种钕铁硼材料,其特征在于,其包含Re2Fe14B主相晶粒及其壳层、邻接所述Re2Fe14B主相晶粒的富Nd相和晶界三角区;
所述Re2Fe14B主相晶粒中的Re包含Ho和/或Dy;
所述壳层为双壳层结构;所述双壳层的内层包含(Nd/Ho)2Fe14B;所述双壳层的外层包含(Nd/Dy)2Fe14B和/或(Nd/Tb)2Fe14B;
所述双壳层的厚度为0.1~1μm;
所述晶界三角区包含Ho2O3和Ho2S3中的一种或两种;
所述晶界三角区中的氧化物和/或硫化物占钕铁硼材料的质量百分含量为1~7%;
所述钕铁硼材料的制备步骤包括:熔炼、铸造、氢破、气流磨、成型、烧结、晶界扩散和时效,即得到所述钕铁硼材料;
其中,所述氢破阶段添加Ho和S中的一种或多种;
所述气流磨的阶段引入氧含量,所述氧含量为0~20ppm且不为0。
2.如权利要求1所述的钕铁硼材料,其特征在于,所述双壳层的厚度为0.57~1μm;
和/或,所述晶界三角区中的氧化物和/或硫化物占钕铁硼材料的质量百分含量为1~3%;
和/或,所述Re2Fe14B主相晶粒占所述钕铁硼材料的质量百分比为90%~100%,且不为100%;
和/或,所述双壳层占所述钕铁硼材料的质量百分比小于1%,且不为0。
3.如权利要求2所述的钕铁硼材料,其特征在于,所述双壳层的厚度为0.57~0.61μm;
和/或,所述晶界三角区中的氧化物和/或硫化物占钕铁硼材料的质量百分含量为1.95~3%;
和/或,所述Re2Fe14B主相晶粒占所述钕铁硼材料的质量百分比为91%~95%;
和/或,所述双壳层占所述钕铁硼材料的质量百分比小于0.8%。
4.如权利要求2所述的钕铁硼材料,其特征在于,所述双壳层的厚度为0.57μm、0.58μm、0.60μm或0.61μm;
和/或,所述晶界三角区中的氧化物和/或硫化物占钕铁硼材料的质量百分含量为1.95%、2.05%、2.1%或2.5%;
和/或,所述Re2Fe14B主相晶粒占所述钕铁硼材料的质量百分比为94%、94.1%、94.2%或94.5%;
和/或,所述双壳层占所述钕铁硼材料的质量百分比为0.5~0.8%。
5.如权利要求2所述的钕铁硼材料,其特征在于,所述双壳层占所述钕铁硼材料的质量百分比为0.54%、0.562%、0.621%或0.652%。
6.如权利要求1所述的钕铁硼材料,其特征在于,所述Re还包含Nd和/或Pr;
和/或,所述晶界三角区还包含Nd2O3。
7.一种如权利要求1-6中任一项所述的钕铁硼材料的制备方法,其特征在于,所述制备方法的步骤包括:熔炼、铸造、氢破、气流磨、成型、烧结、晶界扩散和时效,即得到所述钕铁硼材料;
其中,所述氢破阶段添加Ho和S中的一种或两种;
所述气流磨的阶段引入氧含量,所述氧含量为0~20ppm且不为0。
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