[发明专利]一种消光光阑的制备方法、光学生物识别模组及电子设备

说明书

本发明公开了一种消光光阑的制备方法、光学生物识别模组及电子设备，包括以下步骤：S01:取芯片基体；S02:涂布2层以上光刻胶覆盖在S01的芯片基体上，形成2层以上滤光膜图形；S03:形成消光光阑图形结构。本发明形成的消光光阑可以满足小尺寸光阑结构的需求。

技术领域

本发明属于电子领域，具体涉及一种消光光阑的制备方法、一种光学生物识别模组及一种电子设备。

背景技术

指纹识别器件光路结构的消杂光光阑用于阻挡可见光通过，目前消杂光光阑的制作包括以下步骤(如图1)：

S01:取芯片基体；

S02:涂布黑色光刻胶(感光油墨)覆盖所述基体，光刻形成遮光膜层；

S03:形成如图2的消光光阑图形结构。

图2中，消光光阑2形成在芯片基体1上。

由于分辨率的限制，上述形成的消光光阑2图形尺寸h小于4um时，图形容易发生脱落导致光阑结构作用失效，不能满足小尺寸光阑结构的需求。

发明内容

针对上述缺陷，一方面，本发明提供一种消光光阑的制备方法，该方法形成的消光光阑可以满足小尺寸光阑结构的需求。

一种消光光阑的制造方法，包括以下步骤：

S01:取芯片基体；

S02:涂布2层以上光刻胶覆盖在S01的芯片基体上，形成2层以上滤光膜图形；

S03:形成消光光阑图形结构。

可选地，所述S02包括以下步骤：

S021:涂布蓝色光刻胶覆盖在的芯片基体上，形成第一层蓝色滤光膜图形。

S022:涂布红色光刻胶覆盖带蓝色滤光膜图形，形成第二层红色滤光膜图形。

可选地，所述S02包括以下步骤：

S021:涂布绿色光刻胶覆盖所述基体，形成第一层绿色滤光膜图形；

S022:涂布蓝色光刻胶覆盖带绿色滤光膜，形成第二层蓝色滤光膜图形；

S023:涂布红色光刻胶覆盖带绿色和蓝色滤光膜，形成第三层红色滤光膜图形。

可选地，所述涂布为旋转涂布。

一方面，本发明还提供一种光学生物识别模组。

一种光学生物识别模组，包括微透镜单元形成的微透镜阵列、光阑单元形成的光阑阵列和光信号采集单元形成的信号采集阵列，所述光阑阵列为上述的消光光阑。

可选地，所述光学生物识别模组还包括视场光阑。

可选地，所述光学生物识别模组还包括光学填充层。

一方面，本发明还提供一种电子设备。

一种电子设备，该电子设备包括显示屏和光学生物识别模组，所述光学生物识别模组为上述的光学生物识别模组。

与现有技术相比，本发明的有益效果在于：

本发明通过与现有技术的消光光阑的不同的制备方法，制备出的消光光阑可以满足小尺寸光阑结构。

本发明利用绿、蓝、红三色滤光膜的光谱特性，将三者滤光膜集成在一起，能够阻挡可见光，实现指纹识别器件光路结构的消杂光光阑作用。

附图说明