[发明专利]基于桥连二酸酐与POSS杂化环氧树脂的涂料与涂层

权利要求书

1.基于桥连二酸酐与POSS杂化环氧树脂的涂料组合物，其特征在于，按质量计包括：100份环氧树脂E、3-25份环氧基POSS、10-20份活性环氧稀释剂ED、0.5-2份分散剂、25-50份纳米颜填料以及潜伏型桥连二酸酐CBA固化剂；所述组合物中所含环氧基总量与潜伏型桥连二酸酐CBA固化剂中所含酐基及羧基总量的摩尔比为1：(1-0.8)；

所述的环氧基POSS为结构中含有1-8个环氧基的笼型或半封闭笼型低聚倍半硅氧烷POSS；

所述的潜伏型桥连二酸酐CBA固化剂的结构式为：

（Ⅰ）；

式中，R=-O(C₂H₄O)_a-、-O(C₃H₆O)_b-、-O(C₂H₄O)_a1(C₃H₆O)_b1-、-O[(CH₂)₄O]_c-； a、b、c=1-30；a₁、b₁=0-30，且a₁+b₁=1-30。

2.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述的环氧树脂E，环氧基含量以每百克树脂中所含环氧基的当量数计为0.2-0.59，黏度为2000-20000mPa.s，选自双酚A型环氧树脂、双酚F型环氧树脂、酚醛环氧树脂中的一种。

3.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述环氧基POSS为笼型八(2,3-环氧丙氧丙基)POSS、笼型八(3,4-环氧环己基乙基)POSS、笼型单(2,3-环氧丙氧丙基)七烃基POSS、笼型单(3,4-环氧环己基乙基)七烃基POSS、笼型二(2,3-环氧丙氧丙基)六烃基POSS、笼型二(3,4-环氧环己基乙基)六烃基POSS、笼型三(2,3-环氧丙氧丙基)五烃基POSS、笼型三(3,4-环氧环己基乙基)五烃基POSS以及半封闭笼型三(2,3-环氧丙氧丙基二甲基硅基)七烃基POSS中的一种或多种，所述环氧基POSS中的烃基为异丁基、异辛基、正辛基或苯基。

4.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述的潜伏型桥连二酸酐CBA固化剂，由包括如下步骤的方法得到：

取均苯四甲酸酐PMDA，加入以PMDA质量计100-200%的溶剂，加热使PMDA溶解成透明状，搅拌，在30min内滴加入羟基封端的聚醚二醇PEDO，控制PMDA与PEDO的摩尔比为（2-2.2）:1，然后在80-100℃连续搅拌反应4-10h，得浅黄色透明液体，即为潜伏型桥连二酸酐CBA固化剂；

所述羟基封端的聚醚二醇PEDO为分子两端基各连有一个C-OH键的聚醚。

5.如权利要求4所述的组合物，其特征在于，所述潜伏型桥连二酸酐CBA固化剂的含固量为55-80%，酐基含量以每百克CBA所含酐基的摩尔数表示为0.15-0.35mol/100g，羧基含量以每百克CBA所含羧基的摩尔数表示为0.1-0.35 mol/100g。

6.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述的活性环氧稀释剂ED为丁基缩水甘油醚、C_12-14脂肪族烷基缩水甘油醚、苯基缩水甘油醚、苄基缩水甘油醚、1,6-已二醇二缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚中的一种。

7.如权利要求1所述的组合物，其特征在于，所述的分散剂为BYK-ATU或BYK-161；所述的纳米颜填料为金属氧化物、纳米二氧化硅、硫酸钡、碳酸钙中的一种。