[发明专利]超光滑双波段反射镜及其制备方法

权利要求书

1.一种超光滑双波段反射镜，其特征在于，包括基底和镀制在所述基底上的反射膜，所述反射膜由金属膜与非金属膜构成，所述金属膜包括铬膜和铂膜，所述铬膜镀制在所述基底上，所述铂膜与所述非金属膜交替层叠镀制在所述铬膜上，且所述铂膜与所述非金属膜形成的层叠结构中的顶层和底层均为铂膜，所述铬膜的厚度为1～3nm，每层铂膜的厚度为5～30nm，每层非金属膜的厚度为1～100nm，所述反射膜的总厚度为100～300nm。

2.如权利要求1所述的超光滑双波段反射镜，其特征在于，所述非金属膜为硅膜或碳膜。

3.如权利要求1所述的超光滑双波段反射镜，其特征在于，所述基底为熔石英基底、玻璃基底或硅基底。

4.一种制备方法，其用于制备如权利要求1～3中任一项所述的超光滑双波段反射镜，其特征在于，包括如下步骤：

S1、基底检测：采用暗场显微镜检测附着在基底上的颗粒数，保证每平方毫米的颗粒数小于10个；

S2、基底镀膜：先在所述基底上镀制铬膜，再在所述铬膜上交替层叠镀制铂膜和非金属膜形成反射膜；其中，所述铂膜与所述非金属膜形成的层叠结构中的顶层和底层均为铂膜。

5.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，在步骤S1之前，还包括如下步骤：

S0、基底清洗：先采用电阻率大于18MΩ.cm的高纯水与清洗剂混合对基底进行超声清洗，再采用离心甩干方法对超声清洗后的基底进行清洗。

6.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述铬膜的厚度为1～3nm，每层铂膜的镀制厚度为5～30nm，每层非金属膜的镀制厚度为1～100nm，反射膜的总厚度为100～300nm。

7.如权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述反射膜的镀制方法为磁控溅射法或离子束溅射镀膜法。

8.如权利要求7所述的制备方法，其特征在于，磁控溅射法的镀制参数如下：

直流电源的功率为30～400W；

所述铬膜和铂膜的沉积速度分别为0.01nm/s～0.5nm/s；

所述非金属膜的沉积速度为0.01nm/s～0.5nm/s。